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回转式精密合成碳膜电位器阻体线性修刻技术研究

中文摘要第1-4页
ABSTRACT第4-7页
第一章 绪论第7-15页
   ·课题研究背景和意义第7页
   ·国内外发展状况第7-14页
     ·合成碳膜电位器第7-9页
     ·国内发展状况第9-13页
     ·国外发展状况第13-14页
   ·本文主要内容第14-15页
第二章 系统软件开发第15-25页
   ·概述第15-17页
   ·系统软件规划第17-20页
   ·主要模块的功能第20-24页
     ·人机交互模块第20-21页
     ·修刻模块第21-22页
     ·I/O 模块第22-23页
     ·电压采集模块第23-24页
   ·本章 小结第24-25页
第三章 电压的采集及处理第25-36页
   ·概述第25页
   ·电压分布规律及数字滤波第25-29页
     ·电压分布规律第25-28页
     ·采集电压的数字滤波第28-29页
   ·干扰及干扰消除第29-35页
     ·干扰的寻找第31-34页
     ·干扰的消除第34-35页
   ·本章 小结第35-36页
第四章 修刻参数的确定第36-52页
   ·概述第36页
   ·有效角度第36-42页
     ·合成碳膜电位器的零位特征第37-38页
     ·搜索零位算法第38-42页
   ·修刻量第42-49页
     ·目标直线简介第43-44页
     ·修刻参考目标直线的建立第44-45页
     ·进刀量的确定第45-48页
     ·逼近精度第48-49页
   ·延时处理第49-51页
   ·修刻步长的确定第51页
   ·本章 小结第51-52页
第五章 修刻实例第52-56页
   ·概述第52页
   ·电位器阻体修刻的具体实现第52-54页
   ·电位器修刻结果第54页
   ·本章 小结第54-56页
第六章 电位器线性度评价及误差分析第56-65页
   ·概述第56页
   ·线性度评价方法第56-61页
   ·误差分析第61-64页
     ·毛坯质量的影响第61-63页
     ·其他因素的影响第63-64页
   ·本章 小结第64-65页
第七章 结论与展望第65-67页
   ·全文总结第65页
   ·本文的创造性工作第65-66页
   ·未来展望第66-67页
参考文献第67-70页
附录一 电位器前后零位突跳电阻第70-71页
致谢第71页

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