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石墨烯及其相关结构的生长和性质研究

摘要第1-8页
Abstract第8-12页
第一章 绪论第12-26页
   ·引言第12页
   ·石墨烯的基本性质第12-16页
     ·基本电子性质第12-15页
     ·输运性质第15-16页
     ·非电学性质第16页
   ·石墨烯的制备第16-20页
   ·石墨烯的应用前景第20-23页
   ·本工作的目的、研究对象及研究内容第23-24页
 参考文献第24-26页
第二章 实验原理及装置第26-37页
   ·表面分析方法介绍第26-34页
     ·扫描隧道显微镜第26-32页
   一、基本结构第26-28页
   二、理论基础第28-30页
   三、扫描模式第30-31页
   四、STM图像的影响因素第31-32页
     ·低能电子衍射(LEED)第32页
     ·X射线光电子能谱第32-34页
   ·石墨烯薄膜的制备第34-35页
 参考文献第35-37页
第三章 Ru(0001)表面石墨烯的外延生长第37-50页
   ·引言第37-38页
   ·实验第38页
   ·实验结果和讨论第38-46页
   ·结论第46-47页
 参考文献第47-50页
第四章 Ru(0001)衬底上石墨烯氧化的扫描隧道显微镜研究第50-64页
   ·引言第50-51页
   ·实验第51页
   ·实验结果与讨论第51-61页
   ·结论第61-62页
 参考文献第62-64页
第五章 纳米钴岛在石墨烯摩尔条纹上的成核和生长第64-78页
   ·引言第64-65页
   ·实验第65页
   ·实验结果与讨论第65-75页
   ·结论第75-76页
 参考文献第76-78页
第六章 以Ru(0001)为衬底的石墨烯层下面钴的插层第78-88页
   ·引言第78页
   ·实验第78-79页
   ·结果与讨论第79-85页
   ·结论第85-86页
 参考文献第86-88页
结论与展望第88-91页
攻读博士学位期间发表的论文第91-92页
致谢第92页

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