摘要 | 第1-8页 |
Abstract | 第8-12页 |
第一章 绪论 | 第12-26页 |
·引言 | 第12页 |
·石墨烯的基本性质 | 第12-16页 |
·基本电子性质 | 第12-15页 |
·输运性质 | 第15-16页 |
·非电学性质 | 第16页 |
·石墨烯的制备 | 第16-20页 |
·石墨烯的应用前景 | 第20-23页 |
·本工作的目的、研究对象及研究内容 | 第23-24页 |
参考文献 | 第24-26页 |
第二章 实验原理及装置 | 第26-37页 |
·表面分析方法介绍 | 第26-34页 |
·扫描隧道显微镜 | 第26-32页 |
一、基本结构 | 第26-28页 |
二、理论基础 | 第28-30页 |
三、扫描模式 | 第30-31页 |
四、STM图像的影响因素 | 第31-32页 |
·低能电子衍射(LEED) | 第32页 |
·X射线光电子能谱 | 第32-34页 |
·石墨烯薄膜的制备 | 第34-35页 |
参考文献 | 第35-37页 |
第三章 Ru(0001)表面石墨烯的外延生长 | 第37-50页 |
·引言 | 第37-38页 |
·实验 | 第38页 |
·实验结果和讨论 | 第38-46页 |
·结论 | 第46-47页 |
参考文献 | 第47-50页 |
第四章 Ru(0001)衬底上石墨烯氧化的扫描隧道显微镜研究 | 第50-64页 |
·引言 | 第50-51页 |
·实验 | 第51页 |
·实验结果与讨论 | 第51-61页 |
·结论 | 第61-62页 |
参考文献 | 第62-64页 |
第五章 纳米钴岛在石墨烯摩尔条纹上的成核和生长 | 第64-78页 |
·引言 | 第64-65页 |
·实验 | 第65页 |
·实验结果与讨论 | 第65-75页 |
·结论 | 第75-76页 |
参考文献 | 第76-78页 |
第六章 以Ru(0001)为衬底的石墨烯层下面钴的插层 | 第78-88页 |
·引言 | 第78页 |
·实验 | 第78-79页 |
·结果与讨论 | 第79-85页 |
·结论 | 第85-86页 |
参考文献 | 第86-88页 |
结论与展望 | 第88-91页 |
攻读博士学位期间发表的论文 | 第91-92页 |
致谢 | 第92页 |