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真空紫外同步辐射Seya-Namioka单色仪的多层膜光栅研制

摘要第1-7页
Abstract第7-11页
第一章 绪论第11-23页
   ·引言第11-12页
   ·同步辐射光栅概述第12-18页
     ·主要的光栅单色仪第12-15页
     ·同步辐射光栅类型及发展现状第15-18页
   ·软x 射线-真空紫外多层膜光栅发展现状第18-21页
   ·选题意义与内容安排第21-23页
第二章 真空紫外 Seya-Namioka 单色仪多层膜光栅设计第23-55页
   ·引言第23-24页
   ·真空紫外波段高反射多层膜的优化第24-38页
     ·亚四分之一波长多层膜的基本理论第25-33页
     ·同步辐射Seya 单色仪45-110 nm 波段高反射膜系的优化第33-38页
   ·刻蚀的多层膜光栅的优化设计第38-48页
     ·多层膜光栅在有吸收波段的严格耦合波计算方法第38-44页
     ·45-110 nm 波段刻蚀的多层膜光栅的效率优化第44-48页
   ·45-110 nm 波段镀膜光栅的优化设计第48-53页
   ·本章小结第53-55页
第三章 真空紫外光学元件效率测量的相关问题研究第55-71页
   ·引言第55-56页
   ·45-110 nm 绝对效率测量的高次谐波修正方法第56-64页
     ·计量线站的测量装置第56页
     ·透射光栅定量分析高次谐波成份第56-61页
     ·绝对效率测量的高次谐波修正方法第61-63页
     ·金膜反射率测量的实验验证第63-64页
   ·光学元件效率测量系统的误差分析第64-69页
   ·本章小结第69-71页
第四章 真空紫外多层膜光栅的制作及衍射效率的测量第71-104页
   ·多层膜光栅的制作工艺第71-78页
   ·真空紫外多层膜光栅的效率测量及分析第78-103页
     ·测量方法说明第78-80页
     ·每种光栅的绝对效率测量与光栅槽形参数关系的比较和分析第80-98页
     ·多层膜光栅与单层膜光栅衍射效率的比较与分析第98-101页
     ·光栅时效性的测量和分析第101-103页
   ·本章小结第103-104页
第五章 光谱辐射标准和计量线站高次谐波抑制系统初探第104-124页
   ·引言第104-106页
   ·45-110 nm 波段高次谐波抑制镜系统设计第106-112页
     ·真空紫外高次谐波抑制镜原理第106-108页
     ·高次谐波抑制镜的结构设计第108-111页
     ·性能及讨论第111-112页
   ·45-100 nm 具有抑制高次谐波特性的光栅设计第112-121页
     ·光栅反射膜的设计第112-119页
     ·掠入射光栅的槽形设计第119-121页
   ·滤片滤波第121-122页
   ·本章小结第122-124页
第六章 总结与展望第124-128页
   ·论文的工作总结第124-125页
   ·论文的主要创新点第125页
   ·有待改进的问题第125-126页
   ·展望第126-128页
参考文献第128-141页
作者攻读博士学位期间发表的论文第141-142页
致谢第142-144页

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