摘要 | 第1-7页 |
Abstract | 第7-11页 |
第一章 绪论 | 第11-23页 |
·引言 | 第11-12页 |
·同步辐射光栅概述 | 第12-18页 |
·主要的光栅单色仪 | 第12-15页 |
·同步辐射光栅类型及发展现状 | 第15-18页 |
·软x 射线-真空紫外多层膜光栅发展现状 | 第18-21页 |
·选题意义与内容安排 | 第21-23页 |
第二章 真空紫外 Seya-Namioka 单色仪多层膜光栅设计 | 第23-55页 |
·引言 | 第23-24页 |
·真空紫外波段高反射多层膜的优化 | 第24-38页 |
·亚四分之一波长多层膜的基本理论 | 第25-33页 |
·同步辐射Seya 单色仪45-110 nm 波段高反射膜系的优化 | 第33-38页 |
·刻蚀的多层膜光栅的优化设计 | 第38-48页 |
·多层膜光栅在有吸收波段的严格耦合波计算方法 | 第38-44页 |
·45-110 nm 波段刻蚀的多层膜光栅的效率优化 | 第44-48页 |
·45-110 nm 波段镀膜光栅的优化设计 | 第48-53页 |
·本章小结 | 第53-55页 |
第三章 真空紫外光学元件效率测量的相关问题研究 | 第55-71页 |
·引言 | 第55-56页 |
·45-110 nm 绝对效率测量的高次谐波修正方法 | 第56-64页 |
·计量线站的测量装置 | 第56页 |
·透射光栅定量分析高次谐波成份 | 第56-61页 |
·绝对效率测量的高次谐波修正方法 | 第61-63页 |
·金膜反射率测量的实验验证 | 第63-64页 |
·光学元件效率测量系统的误差分析 | 第64-69页 |
·本章小结 | 第69-71页 |
第四章 真空紫外多层膜光栅的制作及衍射效率的测量 | 第71-104页 |
·多层膜光栅的制作工艺 | 第71-78页 |
·真空紫外多层膜光栅的效率测量及分析 | 第78-103页 |
·测量方法说明 | 第78-80页 |
·每种光栅的绝对效率测量与光栅槽形参数关系的比较和分析 | 第80-98页 |
·多层膜光栅与单层膜光栅衍射效率的比较与分析 | 第98-101页 |
·光栅时效性的测量和分析 | 第101-103页 |
·本章小结 | 第103-104页 |
第五章 光谱辐射标准和计量线站高次谐波抑制系统初探 | 第104-124页 |
·引言 | 第104-106页 |
·45-110 nm 波段高次谐波抑制镜系统设计 | 第106-112页 |
·真空紫外高次谐波抑制镜原理 | 第106-108页 |
·高次谐波抑制镜的结构设计 | 第108-111页 |
·性能及讨论 | 第111-112页 |
·45-100 nm 具有抑制高次谐波特性的光栅设计 | 第112-121页 |
·光栅反射膜的设计 | 第112-119页 |
·掠入射光栅的槽形设计 | 第119-121页 |
·滤片滤波 | 第121-122页 |
·本章小结 | 第122-124页 |
第六章 总结与展望 | 第124-128页 |
·论文的工作总结 | 第124-125页 |
·论文的主要创新点 | 第125页 |
·有待改进的问题 | 第125-126页 |
·展望 | 第126-128页 |
参考文献 | 第128-141页 |
作者攻读博士学位期间发表的论文 | 第141-142页 |
致谢 | 第142-144页 |