摘要 | 第1-5页 |
ABSTRACT | 第5-8页 |
第一章 绪论 | 第8-16页 |
·引言 | 第8页 |
·离子成像技术(Ion Imaging) | 第8-9页 |
·符合技术 | 第9-10页 |
·离解及预离解过程 | 第10页 |
·光解过程中的能量关系 | 第10-11页 |
·光解中E-μ-v 关联 | 第11-12页 |
·Back-projection 和onion peeling 图像重建方法 | 第12-16页 |
第二章 实验装置 | 第16-31页 |
·同步辐射特点 | 第16-18页 |
·国家同步辐射实验室原子与分子物理(U-14A)光束线 | 第18-22页 |
·原子与分子物理(U-14A)光束线的结构 | 第19-20页 |
·前置光学系统 | 第20页 |
·单色器 | 第20页 |
·后置镜 | 第20-21页 |
·气体滤波池 | 第21-22页 |
·TPEPICO 成像实验站 | 第22-31页 |
·实验装置 | 第22-26页 |
·性能 | 第26-31页 |
第三章 阈值光电子-光离子符合成像研究NO~+ c~3Π(v’=0)态解离动力学 | 第31-40页 |
·引言 | 第31页 |
·实验 | 第31-33页 |
·实验结果及讨论 | 第33-39页 |
·离子在CM 和MPCM 坐标系中的速度、飞行时间及其在TPEPICO 图像中的位移之间的关系 | 第33-34页 |
·图像的处理 | 第34-35页 |
·结果及讨论 | 第35-39页 |
·结论 | 第39-40页 |
参考文献 | 第40-44页 |
在读期间发表的学术论文与取得的其他研究成果 | 第44页 |