| 摘要 | 第5-6页 |
| Abstract | 第6-7页 |
| 第一章 绪论 | 第11-25页 |
| 1.1 引言 | 第11-12页 |
| 1.2 钕铁硼永磁材料及其腐蚀和防护 | 第12-17页 |
| 1.2.1 钕铁硼永磁材料简介 | 第12-13页 |
| 1.2.1.1 稀土永磁材料 | 第12页 |
| 1.2.1.2 钕铁硼永磁材料 | 第12-13页 |
| 1.2.2 钕铁硼永磁材料的腐蚀及机理 | 第13-14页 |
| 1.2.2.1 化学腐蚀 | 第13-14页 |
| 1.2.2.2 电化学腐蚀 | 第14页 |
| 1.2.3 钕铁硼永磁材料的防护 | 第14-17页 |
| 1.2.3.1 电沉积防护 | 第15-16页 |
| 1.2.3.2 存在的问题 | 第16-17页 |
| 1.3 离子液体及其电沉积 | 第17-20页 |
| 1.3.1 离子液体的简介 | 第17页 |
| 1.3.2 离子液体的分类 | 第17-18页 |
| 1.3.3 离子液体的特点 | 第18-19页 |
| 1.3.4 离子液体电沉积 | 第19-20页 |
| 1.4 铜的电沉积 | 第20-23页 |
| 1.4.1 水溶液电沉积铜 | 第20-21页 |
| 1.4.2 离子液体电沉积铜 | 第21-23页 |
| 1.5 课题提出及研究内容 | 第23-25页 |
| 第二章 实验方法 | 第25-35页 |
| 2.1 实验原料 | 第25-26页 |
| 2.2 实验仪器 | 第26页 |
| 2.3 离子液体的配制和精制 | 第26-27页 |
| 2.4 前处理工艺 | 第27-28页 |
| 2.4.1 钦铁硼基体前处理 | 第27-28页 |
| 2.4.2 其他电极前处理 | 第28页 |
| 2.5 温控装置的组建 | 第28-29页 |
| 2.6 离子液体电沉积铜 | 第29-30页 |
| 2.7 检测方法 | 第30-35页 |
| 2.7.1 SEM和EDS分析 | 第30页 |
| 2.7.2 XRD分析 | 第30页 |
| 2.7.3 镀层结合力测试 | 第30-31页 |
| 2.7.4 粗糙度测试 | 第31-32页 |
| 2.7.5 电化学测试 | 第32-35页 |
| 2.7.5.1 开路电位 | 第32页 |
| 2.7.5.2 循环伏安曲线 | 第32页 |
| 2.7.5.3 阳极极化曲线 | 第32-33页 |
| 2.7.5.4 动电位极化曲线 | 第33-35页 |
| 第三章 铜丝精制对CuCl-EMIC离子液体性质的影响 | 第35-45页 |
| 3.1 引言 | 第35页 |
| 3.2 未精制CuCl-EMIC离子液体的电化学性质 | 第35-39页 |
| 3.3 铜丝精制的作用 | 第39-43页 |
| 3.4 精制后不同配比CuCl-EMIC离子液体的电化学性质 | 第43-44页 |
| 3.5 本章小结 | 第44-45页 |
| 第四章 钕铁硼前处理工艺的研究 | 第45-61页 |
| 4.1 引言 | 第45-46页 |
| 4.2 湿法酸洗前处理 | 第46-50页 |
| 4.2.1 酸洗对钕铁硼表面的影响 | 第46-48页 |
| 4.2.2 钕铁硼表面铜镀层及其结合力 | 第48-50页 |
| 4.3 阳极活化前处理 | 第50-59页 |
| 4.3.1 钕铁硼在CuCl-EMIC离子液体中的阳极极化曲线 | 第50-52页 |
| 4.3.2 阳极活化对钕铁硼表面的影响 | 第52-56页 |
| 4.3.3 钕铁硼表面铜镀层及其结合力 | 第56-59页 |
| 4.4 本章小结 | 第59-61页 |
| 第五章 电化学参数对钕铁硼表面电沉积铜的影响 | 第61-73页 |
| 5.1 引言 | 第61页 |
| 5.2 槽电压对铜镀层表面形貌的影响 | 第61-63页 |
| 5.3 电沉积时间对铜镀层孔隙率的影响 | 第63-67页 |
| 5.4 电流密度对铜镀层结构的影响 | 第67-70页 |
| 5.5 本章小结 | 第70-73页 |
| 第六章 结论 | 第73-75页 |
| 参考文献 | 第75-83页 |
| 致谢 | 第83-85页 |
| 个人简历 | 第85-87页 |
| 攻读硕士学位期间发表的学术论文与取得的其他研究成果 | 第87页 |
