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电子活性基团修饰的酞菁类化合物及其金属配合物的合成、表征和光谱性质

中文摘要第1-10页
Abstract第10-13页
缩写第13-14页
第一章 绪论第14-52页
 第一节 卟啉、酞菁、苝二酰亚胺、四硫富瓦烯简介第14-26页
 第二节 三明治型卟啉酞菁类配合物综述第26-33页
 第三节 卟啉酞菁和花二酰亚胺化合物的合成第33-43页
 参考文献第43-52页
第二章 花二酰亚胺修饰的三明治型混杂卟啉酞菁稀土配合物的合成、光谱表征和电化学性质第52-81页
 第一节 前言第52-55页
 第二节 实验部分第55-66页
 第三节 结果与讨论第66-75页
 第四节 结论第75-76页
 参考文献第76-81页
第三章 TTF取代酞菁的合成和表征第81-99页
 第一节 前言第81-83页
 第二节 实验部分第83-90页
 第三节 结果与讨论第90-95页
 第四节 结论第95-96页
 参考文献第96-99页
第四章 β位八正己基磺酰基取代的酞菁的红外光谱研究第99-119页
 第一节 前言第99-101页
 第二节 实验部分第101-103页
 第三节 结果与讨论第103-112页
 第四节 结论第112-113页
 参考文献第113-119页
致谢第119-120页
博士期间发表的论文第120-122页
学位论文评阅及答辩情况表第122-124页
外文论文第124-148页

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