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气相化学对热丝CVD金刚石薄膜影响的研究

摘要第5-7页
Abstract第7-8页
第1章 绪论第12-26页
    1.1 金刚石的简介、应用以及人工合成研究概况第12页
    1.2 化学气相沉积法制备金刚石薄膜的研究概况第12-14页
    1.3 化学气相沉积法制备金刚石薄膜的原理第14-17页
        1.3.1 化学气相沉积法制备金刚石薄膜的热力学与动力学因素第15页
        1.3.2 化学气相沉积法制备金刚石薄膜的微观步骤第15-16页
        1.3.3 化学气相沉积法制备金刚石薄膜的形核第16-17页
    1.4 几种主要的CVD金刚石合成方法第17-19页
        1.4.1 热丝CVD(HFCVD)第17-18页
        1.4.2 微波等离子体CVD(MPCVD)第18页
        1.4.3 燃烧火焰法CVD(Flame CVD)第18页
        1.4.4 直流电弧等离子体喷射CVD(DCArcPlasmajet CVD)第18-19页
    1.5 等离子体诊断分析第19-23页
        1.5.1 朗缪尔探针诊断第19-20页
        1.5.2 质谱诊断第20-21页
        1.5.3 波干涉诊断第21页
        1.5.4 光谱诊断第21-23页
    1.6 研究目的及意义与工作内容第23-26页
第2章 沉积装置及检测方法第26-32页
    2.1 实验装置与素材第26-27页
    2.2 热丝的选择与碳化第27-29页
    2.3 样品表征与等离子体诊断第29-32页
        2.3.1 扫描电子显微镜第29-30页
        2.3.2 激光拉曼光谱诊断第30页
        2.3.3 等离子体发射光谱诊断第30-32页
第3 章.气相化学反应对HFCVD法制备金刚石薄膜的影响第32-56页
    3.1 沉积气压对HFCVD法制备金刚石薄膜的影响第32-38页
        3.1.1 实验方案第32页
        3.1.2 结果与分析第32-36页
            1.表面与断面形貌表征第32-35页
            2.薄膜质量第35-36页
        3.1.3 等离子体诊断第36-38页
    3.2 碳源种类(甲烷与丙酮)及浓度对HFCVD法生长金刚石的影响第38-46页
        3.2.1 实验方案第38-40页
        3.2.2 结果与分析第40-44页
        3.2.3 等离子体诊断第44-46页
    3.3 气体流速对HFCVD金刚石沉积的影响第46-53页
        3.3.1 实验方案第46-47页
        3.3.2 结果分析第47-51页
        3.3.3 等离子体诊断第51-53页
    3.4 本章小结第53-56页
第4 章.约束空间下HFCVD金刚石薄膜的较高速沉积第56-70页
    4.1 较大气流量范围内约束空间系统HFCVD金刚石沉积第57-63页
        4.1.1 实验方案第57-59页
        4.1.2 结果与分析第59-63页
    4.2 钼片盖板冲蚀口薄膜成分的拉曼光谱检测第63-64页
    4.3 较小流量范围内约束空间系统沉积金刚石薄膜第64-68页
        4.3.1 实验方案第64-65页
        4.3.2 结果与分析第65-68页
    4.4 本章小结第68-70页
第5章 较低温度下HFCVD金刚石薄膜的制备第70-80页
    5.1 热丝功率同热丝与衬底间距大小的匹配对较低温度沉积的影响第71-76页
        5.1.1 实验方案第71页
        5.1.2 衬底温度的纯铝熔融测控法第71-73页
        5.1.3 结果与分析第73-76页
    5.2 较低衬底温度下约束空间HFCVD金刚石薄膜较高速制备第76-78页
        5.2.1 实验方案第76-77页
        5.2.2 结果与分析第77-78页
    5.3 本章小结第78-80页
第6章 论文总结第80-82页
参考文献第82-90页
攻读硕士期间发表的论文第90-92页
致谢第92页

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