| 摘要 | 第5-7页 |
| Abstract | 第7-8页 |
| 第1章 绪论 | 第12-26页 |
| 1.1 金刚石的简介、应用以及人工合成研究概况 | 第12页 |
| 1.2 化学气相沉积法制备金刚石薄膜的研究概况 | 第12-14页 |
| 1.3 化学气相沉积法制备金刚石薄膜的原理 | 第14-17页 |
| 1.3.1 化学气相沉积法制备金刚石薄膜的热力学与动力学因素 | 第15页 |
| 1.3.2 化学气相沉积法制备金刚石薄膜的微观步骤 | 第15-16页 |
| 1.3.3 化学气相沉积法制备金刚石薄膜的形核 | 第16-17页 |
| 1.4 几种主要的CVD金刚石合成方法 | 第17-19页 |
| 1.4.1 热丝CVD(HFCVD) | 第17-18页 |
| 1.4.2 微波等离子体CVD(MPCVD) | 第18页 |
| 1.4.3 燃烧火焰法CVD(Flame CVD) | 第18页 |
| 1.4.4 直流电弧等离子体喷射CVD(DCArcPlasmajet CVD) | 第18-19页 |
| 1.5 等离子体诊断分析 | 第19-23页 |
| 1.5.1 朗缪尔探针诊断 | 第19-20页 |
| 1.5.2 质谱诊断 | 第20-21页 |
| 1.5.3 波干涉诊断 | 第21页 |
| 1.5.4 光谱诊断 | 第21-23页 |
| 1.6 研究目的及意义与工作内容 | 第23-26页 |
| 第2章 沉积装置及检测方法 | 第26-32页 |
| 2.1 实验装置与素材 | 第26-27页 |
| 2.2 热丝的选择与碳化 | 第27-29页 |
| 2.3 样品表征与等离子体诊断 | 第29-32页 |
| 2.3.1 扫描电子显微镜 | 第29-30页 |
| 2.3.2 激光拉曼光谱诊断 | 第30页 |
| 2.3.3 等离子体发射光谱诊断 | 第30-32页 |
| 第3 章.气相化学反应对HFCVD法制备金刚石薄膜的影响 | 第32-56页 |
| 3.1 沉积气压对HFCVD法制备金刚石薄膜的影响 | 第32-38页 |
| 3.1.1 实验方案 | 第32页 |
| 3.1.2 结果与分析 | 第32-36页 |
| 1.表面与断面形貌表征 | 第32-35页 |
| 2.薄膜质量 | 第35-36页 |
| 3.1.3 等离子体诊断 | 第36-38页 |
| 3.2 碳源种类(甲烷与丙酮)及浓度对HFCVD法生长金刚石的影响 | 第38-46页 |
| 3.2.1 实验方案 | 第38-40页 |
| 3.2.2 结果与分析 | 第40-44页 |
| 3.2.3 等离子体诊断 | 第44-46页 |
| 3.3 气体流速对HFCVD金刚石沉积的影响 | 第46-53页 |
| 3.3.1 实验方案 | 第46-47页 |
| 3.3.2 结果分析 | 第47-51页 |
| 3.3.3 等离子体诊断 | 第51-53页 |
| 3.4 本章小结 | 第53-56页 |
| 第4 章.约束空间下HFCVD金刚石薄膜的较高速沉积 | 第56-70页 |
| 4.1 较大气流量范围内约束空间系统HFCVD金刚石沉积 | 第57-63页 |
| 4.1.1 实验方案 | 第57-59页 |
| 4.1.2 结果与分析 | 第59-63页 |
| 4.2 钼片盖板冲蚀口薄膜成分的拉曼光谱检测 | 第63-64页 |
| 4.3 较小流量范围内约束空间系统沉积金刚石薄膜 | 第64-68页 |
| 4.3.1 实验方案 | 第64-65页 |
| 4.3.2 结果与分析 | 第65-68页 |
| 4.4 本章小结 | 第68-70页 |
| 第5章 较低温度下HFCVD金刚石薄膜的制备 | 第70-80页 |
| 5.1 热丝功率同热丝与衬底间距大小的匹配对较低温度沉积的影响 | 第71-76页 |
| 5.1.1 实验方案 | 第71页 |
| 5.1.2 衬底温度的纯铝熔融测控法 | 第71-73页 |
| 5.1.3 结果与分析 | 第73-76页 |
| 5.2 较低衬底温度下约束空间HFCVD金刚石薄膜较高速制备 | 第76-78页 |
| 5.2.1 实验方案 | 第76-77页 |
| 5.2.2 结果与分析 | 第77-78页 |
| 5.3 本章小结 | 第78-80页 |
| 第6章 论文总结 | 第80-82页 |
| 参考文献 | 第82-90页 |
| 攻读硕士期间发表的论文 | 第90-92页 |
| 致谢 | 第92页 |
