| 摘要 | 第5-7页 |
| ABSTRACT | 第7-8页 |
| 第1章 绪论 | 第11-25页 |
| 1.1 MPCVD法制备金刚石薄膜 | 第12-16页 |
| 1.1.1 MPCVD金刚石薄膜的生长机理 | 第13-14页 |
| 1.1.2 纳米金刚石薄膜的生长机理 | 第14页 |
| 1.1.3 CO_2/CH_4 体系纳米金刚石薄膜的生长机理 | 第14-16页 |
| 1.2 贫氢气氛制备金刚石薄膜的研究与应用 | 第16-21页 |
| 1.2.1 国外贫氢气氛制备金刚石薄膜研究进展 | 第17-18页 |
| 1.2.2 我国贫氢气氛制备金刚石薄膜研究进展 | 第18页 |
| 1.2.3 贫氢气氛制备金刚石薄膜的研究基础 | 第18-19页 |
| 1.2.4 贫氢气氛制备金刚石薄膜在电极材料方面的应用 | 第19-21页 |
| 1.3 本文的研究意义 | 第21-22页 |
| 1.4 本文的研究内容 | 第22-25页 |
| 第2章 实验设备与表征手段 | 第25-31页 |
| 2.1 WOOSINENT-R2.0型MPCVD装置 | 第25-27页 |
| 2.1.1 WOOSINENT-R2.0型MPCVD装置结构特点 | 第25-27页 |
| 2.1.2 WOOSINENT-R2.0型MPCVD装置工作原理 | 第27页 |
| 2.2 样品薄膜的表征方法 | 第27-31页 |
| 2.2.1 光学金相显微镜 | 第27-28页 |
| 2.2.2 扫描电子显微镜 | 第28页 |
| 2.2.3 激光拉曼光谱 | 第28-29页 |
| 2.2.4 原子力显微镜 | 第29页 |
| 2.2.5 透射电子显微镜 | 第29-31页 |
| 第3章 贫氢环境下低浓度CO_2 对纳米金刚石膜生长的影响 | 第31-45页 |
| 3.1 对低浓度CO_2 下纳米金刚石膜生长结构的研究 | 第32-37页 |
| 3.1.1 低浓度CO_2 贫氢环境下纳米金刚石膜的表面形貌变化 | 第32-35页 |
| 3.1.2 不同CO_2 浓度对金刚石薄膜质量的影响 | 第35-37页 |
| 3.2 针状纳米金刚石薄膜的微观结构 | 第37-39页 |
| 3.3 针状纳米金刚石薄膜的比表面积 | 第39-41页 |
| 3.4 针状纳米金刚石薄膜的电化学性能 | 第41-43页 |
| 3.5 本章小结 | 第43-45页 |
| 第4章 氮气对低浓度二氧化碳下生长金刚石薄膜的影响 | 第45-63页 |
| 4.1 引言 | 第45-46页 |
| 4.2 中间浓度氮气对金刚石膜结构性能的影响 | 第46-54页 |
| 4.3 高浓度氮气对金刚石薄膜的结构性能的影响 | 第54-59页 |
| 4.4 本章小结 | 第59-63页 |
| 第5章 全文总结与展望 | 第63-67页 |
| 5.1 全文总结 | 第63-65页 |
| 5.2 展望 | 第65-67页 |
| 参考文献 | 第67-75页 |
| 攻读硕士期间已发表的论文 | 第75-77页 |
| 致谢 | 第77页 |
