| 摘要 | 第1-4页 |
| ABSTRACT | 第4-6页 |
| 目录 | 第6-7页 |
| 1 引言 | 第7-14页 |
| ·锰氧化物简介 | 第8-9页 |
| ·镧钙锰氧(LCMO)薄膜介绍 | 第9-11页 |
| ·镨锶锰氧(PSMO)薄膜介绍 | 第11-12页 |
| ·外延薄膜晶格应力弛豫及微结构研究 | 第12页 |
| ·论文的研究目的、方法和内容 | 第12-14页 |
| 2 钙钛矿锰氧化物薄膜的制备和结构的表征 | 第14-21页 |
| ·钙钛矿锰氧化物薄膜的制备方法 | 第14-16页 |
| ·分子束外延技术(MBE) | 第14页 |
| ·脉冲激光沉积技术(PLD) | 第14-16页 |
| ·激光分子束外延(L-MBE) | 第16页 |
| ·钙钛矿锰氧化物薄膜的X射线结构表征 | 第16-20页 |
| ·RIETVELD精修程序 | 第20-21页 |
| 3 钙钛矿锰氧化物三层膜的结构研究 | 第21-34页 |
| ·样品的制备 | 第21-22页 |
| ·样品的实验方法 | 第22-23页 |
| ·样品的实验结果分析 | 第23-34页 |
| ·镧钙锰氧三层膜结构研究及结论 | 第23-28页 |
| ·镨锶锰氧三层膜结构研究及结论 | 第28-34页 |
| 4 结语 | 第34-35页 |
| 致谢 | 第35-36页 |
| 参考文献 | 第36-39页 |