| 摘要 | 第1-4页 |
| ABSTRACT | 第4-7页 |
| 1 绪论 | 第7-21页 |
| ·锰氧化物简介 | 第7-10页 |
| ·常见的磁电阻现象 | 第10-13页 |
| ·正常磁电阻 | 第10页 |
| ·各向异性磁电阻 | 第10-11页 |
| ·巨磁电阻 | 第11-12页 |
| ·庞磁电阻 | 第12-13页 |
| ·庞磁电阻材料的应用 | 第13-14页 |
| ·薄膜的制作方法 | 第14-18页 |
| ·磁控溅射法制备薄膜 | 第14-16页 |
| ·脉冲激光沉积法(Pulsed Laser Deposition,PLD) | 第16-17页 |
| ·薄膜的生长机制 | 第17-18页 |
| ·薄膜的衬底材料(蓝宝石衬底) | 第18-20页 |
| ·本文的研究内容 | 第20页 |
| ·小结 | 第20-21页 |
| 2 薄膜的制备与表征方法 | 第21-28页 |
| ·薄膜的制备 | 第21-22页 |
| ·固相反应法制备La_(0.5)Ca_(0.5)MnO_3靶材 | 第21页 |
| ·脉冲激光沉积法制作La_(0.5)Ca_(0.5)MnO_3薄膜 | 第21-22页 |
| ·材料结构的表征方法 | 第22-26页 |
| ·常规X射线衍射方法 | 第22-23页 |
| ·同步辐射X射线 | 第23-24页 |
| ·X射线掠入射衍射 | 第24-26页 |
| ·小结 | 第26-28页 |
| 3 实验测量与数据分析 | 第28-34页 |
| ·实验结果 | 第28-30页 |
| ·数据分析 | 第30-31页 |
| ·仍未解决的问题 | 第31-32页 |
| ·推测 | 第32-34页 |
| 4 结语 | 第34-35页 |
| 致谢 | 第35-36页 |
| 参考文献 | 第36-39页 |
