| 摘要 | 第5-7页 |
| Abstract | 第7-8页 |
| 第1章 绪论 | 第11-23页 |
| 1.1 引言 | 第11-12页 |
| 1.2 电致变色材料 | 第12-13页 |
| 1.2.1 有机电致变色材料 | 第12页 |
| 1.2.2 有机金属螯合材料 | 第12-13页 |
| 1.2.3 无机电致变色材料 | 第13页 |
| 1.3 三氧化钨(WO_3) | 第13-14页 |
| 1.3.1 WO_3结构 | 第13-14页 |
| 1.3.2 WO_3电致变色机理 | 第14页 |
| 1.4 磁控溅射沉积WO_3薄膜优势 | 第14-17页 |
| 1.5 WO_3电致变色薄膜应用 | 第17-18页 |
| 1.6 WO_3电致变色材料改性 | 第18-21页 |
| 1.6.1 金属元素掺杂 | 第18-20页 |
| 1.6.2 高分子掺杂 | 第20-21页 |
| 1.6.3 复合薄膜 | 第21页 |
| 1.7 研究内容 | 第21-23页 |
| 第2章 实验过程与测试方法 | 第23-27页 |
| 2.1 实验材料与仪器 | 第23-24页 |
| 2.1.1 实验基材与试剂 | 第23页 |
| 2.1.2 实验仪器 | 第23-24页 |
| 2.2 薄膜制备设备及制备过程 | 第24-25页 |
| 2.3 薄膜结构与性能表征 | 第25-27页 |
| 2.3.1 表面形貌分析 | 第25页 |
| 2.3.2 成分与结构分析 | 第25-26页 |
| 2.3.3 透光度分析 | 第26页 |
| 2.3.4 电化学性能分析 | 第26-27页 |
| 第3章 传统磁控溅射沉积致密TiO_2/WO_3复合薄膜及其电致变色性能 | 第27-39页 |
| 3.1 二氧化钛沉积参数优化 | 第27-30页 |
| 3.2 致密TiO_2/WO_3复合薄膜的制备 | 第30-31页 |
| 3.3 致密TiO_2/WO_3复合薄膜表面形貌及成分 | 第31-32页 |
| 3.3.1 EDS分析 | 第31页 |
| 3.3.2 表面及断面形貌 | 第31-32页 |
| 3.4 致密TiO_2/WO_3复合薄膜电致变色特性 | 第32-36页 |
| 3.5 致密TiO_2/WO_3复合薄膜光学特性 | 第36-38页 |
| 3.6 本章小结 | 第38-39页 |
| 第4章 掠射角磁控溅射沉积纳米结构WO_3薄膜及其电致变色性能 | 第39-48页 |
| 4.1 纳米结构WO_3薄膜表面及断面形貌 | 第39-40页 |
| 4.2 纳米结构WO_3薄膜电致变色特性 | 第40-45页 |
| 4.3 纳米结构WO_3薄膜光学特性 | 第45-46页 |
| 4.4 本章小结 | 第46-48页 |
| 第5章 掠射角磁控溅射沉积纳米结构TiO_2/WO_3复合薄膜及其电致变色性能 | 第48-59页 |
| 5.1 纳米结构TiO_2/WO_3复合薄膜表面形貌 | 第48-49页 |
| 5.2 纳米结构TiO_2/WO_3复合薄膜晶体结构及表面成分 | 第49-50页 |
| 5.3 纳米结构TiO_2/WO_3复合薄膜电致变色特性 | 第50-54页 |
| 5.4 纳米结构TiO_2/WO_3复合薄膜光学特性 | 第54-57页 |
| 5.5 本章小结 | 第57-59页 |
| 第6章 结论 | 第59-60页 |
| 参考文献 | 第60-63页 |
| 在学期间研究成果 | 第63-64页 |
| 致谢 | 第64-65页 |
