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基于粗糙表面膜的真空膜蒸馏过程研究

摘要第4-5页
abstract第5-6页
符号说明第10-11页
第一章 绪论第11-23页
    1.1 膜蒸馏概述第11-15页
        1.1.1 膜蒸馏过程的原理及其特点第11页
        1.1.2 膜蒸馏过程分类第11-13页
        1.1.3 膜蒸馏的应用第13-14页
        1.1.4 膜蒸馏用膜的分类第14-15页
            1.1.4.1 有机膜第14-15页
            1.1.4.2 无机膜第15页
    1.2 影响VMD过程的因素第15-18页
        1.2.1 影响VMD过程的操作条件第15-16页
            1.2.1.1 .进料温度第15页
            1.2.1.2 料液浓度第15页
            1.2.1.3 料液流速第15-16页
            1.2.1.4 真空度第16页
        1.2.2 影响VMD过程的膜结构参数第16-18页
            1.2.2.1 膜厚度第16-17页
            1.2.2.2 孔径第17页
            1.2.2.3 孔隙率第17-18页
            1.2.2.4 曲折因子第18页
            1.2.2.5 膜表面粗糙度第18页
    1.3 膜蒸馏过程研究进展第18-21页
    1.4 本文工作第21-23页
第二章 基于粗糙表面膜的VMD传递过程模型第23-39页
    2.1 VMD传热过程第24-28页
        2.1.1 对流传热第24-26页
        2.1.2 料液在粗糙膜表面的汽化第26页
        2.1.3 蒸汽分子的跨膜传热第26-27页
        2.1.4 膜下游侧的蒸汽冷凝第27-28页
        2.1.5 温差极化第28页
    2.2 VMD传质过程第28-38页
        2.2.1 边界层内的对流传质第29-30页
        2.2.2 料液在热侧粗糙膜表面处汽化传质第30-34页
        2.2.3 跨膜传质第34-37页
        2.2.4 水蒸气在冷侧冷凝抽出第37页
        2.2.5 浓差极化第37-38页
    2.3 本章小结第38-39页
第三章 实验部分第39-47页
    3.1 不同粗糙结构表面膜的制备第39-43页
        3.1.1 实验原料与仪器第39-40页
        3.1.2 粗糙表面膜的制备第40-41页
            3.1.2.1 化学刻蚀法制备粗糙基底第40-41页
            3.1.2.2 铸膜液的配制第41页
            3.1.2.3 疏水膜的制备第41页
        3.1.3 膜结构和性能的表征第41-43页
            3.1.3.1 膜结构的表征第41-42页
            3.1.3.2 膜性能的表征第42-43页
    3.2 VMD实验第43-46页
        3.2.1 实验原料与仪器第43页
        3.2.2 真空膜蒸馏实验流程第43-45页
        3.2.3 真空膜蒸馏实验步骤第45页
        3.2.4 真空膜蒸馏过程分离性能表征第45页
        3.2.5 真空膜蒸馏实验操作条件第45-46页
    3.3 本章小结第46-47页
第四章 模型的检验及参数估计第47-58页
    4.1 通量与膜表面粗糙度的关系第47-49页
    4.2 通量与膜厚的关系第49-51页
    4.3 通量与孔隙率的关系第51-52页
    4.4 通量与曲折因子的关系第52-54页
    4.5 通量与孔径的关系第54-55页
    4.6 本章小结第55-58页
第五章 结论与展望第58-62页
    5.1 结论第58-60页
    5.2 研究展望第60-62页
参考文献第62-68页
攻读学位期间所取得的相关科研成果第68-70页
致谢第70页

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