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单层二硫化钼接枝聚硅烷复合材料制备及表征研究

摘要第5-6页
Abstract第6-7页
第1章 绪论第11-22页
    1.1 选课背景第11页
    1.2 聚硅烷的简介第11-16页
        1.2.1 聚硅烷的结构第12页
        1.2.2 聚硅烷的性质第12-14页
        1.2.3 聚硅烷的合成方法第14-16页
        1.2.4 聚硅烷的应用第16页
    1.3 二硫化钼的简介第16-18页
        1.3.1 二硫化钼的结构第16-17页
        1.3.2 二硫化钼的性质第17页
        1.3.3 二硫化钼的应用第17-18页
    1.4 二硫化钼的改性第18-20页
        1.4.1 二硫化钼剥层改性第18页
        1.4.2 二硫化钼夹层改性第18-19页
        1.4.3 二硫化钼接枝改性第19-20页
    1.5 国内外研究现状第20-21页
        1.5.1 聚硅烷研究现状第20页
        1.5.2 二硫化钼研究现状第20页
        1.5.3 二硫化钼复合材料研究现状第20-21页
    1.6 研究意义及主要研究内容第21-22页
        1.6.1 研究意义第21页
        1.6.2 主要研究内容第21-22页
第2章 空位接枝法制备二硫化钼接枝聚硅烷及表征第22-37页
    2.1 实验仪器及试剂第22-24页
    2.2 含双键聚硅烷的制备第24-26页
        2.2.1 制备方法第24页
        2.2.2 实验流程第24-25页
        2.2.3 反应条件第25-26页
    2.3 含巯基聚硅烷(PSI-(CH_2)_6-SH)的制备第26-27页
        2.3.1 制备方法第26-27页
        2.3.2 光引发法制备PSI-(CH_2)_6-SH实验流程第27页
        2.3.3 热引发法制备PSI-(CH_2)_6-SH实验流程第27页
    2.4 单层二硫化钼的制备第27-28页
        2.4.1 制备方法第27-28页
        2.4.2 实验流程第28页
    2.5 单层二硫化钼接枝聚硅烷(MoS_2-g-PSI)的制备第28-29页
        2.5.1 制备方法第28-29页
        2.5.2 实验流程第29页
    2.6 接枝产品(MoS_2-g-PSI)的表征第29-36页
        2.6.1 红外表征第29-30页
        2.6.2 紫外表征第30-32页
        2.6.3 SEM及EDS表征第32-33页
        2.6.4 XPS表征第33-36页
    2.7 本章小结第36-37页
第3章 共价接枝法制备二硫化钼接枝聚硅烷及表征第37-51页
    3.1 实验仪器及试剂第37-38页
    3.2 含氯聚硅烷(PSI-Cl)的制备第38-41页
        3.2.1 制备方法第39页
        3.2.2 实验流程第39-40页
        3.2.3 反应条件第40-41页
    3.3 单层二硫化钼的制备第41页
    3.4 单层二硫化钼接枝聚硅烷(MoS_2-PSI)的制备第41-42页
        3.4.1 制备方法第41页
        3.4.2 实验流程第41-42页
    3.5 接枝产品(MoS_2-PSI)的表征第42-50页
        3.5.1 红外表征第42-43页
        3.5.2 XRD表征第43-45页
        3.5.3 XPS表征第45-48页
        3.5.4 SEM及EDS表征第48-49页
        3.5.5 TEM表征第49-50页
    3.6 本章小结第50-51页
第4章 结果分析与讨论第51-56页
    4.1 MoS_2-g-PSI的结果分析第51-53页
        4.1.1 含双键聚硅烷产率分析第51-52页
        4.1.2 MoS_2-g-PSI接枝率分析第52页
        4.1.3 电导率测试第52-53页
    4.2 MoS_2-PSI的结果分析第53-55页
        4.2.1 MoS_2-PSI接枝率分析第53页
        4.2.2 电导率测试第53-55页
    4.3 结果讨论第55页
    4.4 本章小节第55-56页
结论第56-57页
参考文献第57-60页
攻读学位期间发表的学术论文和申请的专利第60-61页
致谢第61页

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