| 摘要 | 第1-5页 |
| Abstract | 第5-10页 |
| 引言 | 第10-11页 |
| 1 绪论 | 第11-21页 |
| ·ZnO的基本性质 | 第11-16页 |
| ·ZnO的晶体结构 | 第11-13页 |
| ·ZnO的电子结构 | 第13-14页 |
| ·ZnO的光学性质 | 第14-15页 |
| ·ZnO的电学性质 | 第15-16页 |
| ·ZnO的其他性质 | 第16页 |
| ·ZnO的应用 | 第16-21页 |
| ·表面声波器件 | 第16-17页 |
| ·紫外光探测器 | 第17-18页 |
| ·压敏电阻 | 第18-19页 |
| ·ZnO发光二极管(LEDs)和激光二极管(LDs) | 第19页 |
| ·与GaN互作缓冲层 | 第19-20页 |
| ·透明导电膜 | 第20-21页 |
| 2 ZnO薄膜的制备 | 第21-29页 |
| ·ZnO薄膜的制备技术 | 第21-25页 |
| ·分子束外延(MBE) | 第21-22页 |
| ·金属有机物化学气相沉积(MOCVD) | 第22页 |
| ·脉冲激光沉积(PLD) | 第22-23页 |
| ·溶胶-凝胶法(sol-gel) | 第23-24页 |
| ·电子束反应蒸镀法(Reactive Electron Beam Evaporation) | 第24页 |
| ·喷雾热分解(Spray Pyrolysis) | 第24页 |
| ·溅射法(Sputtering) | 第24-25页 |
| ·薄膜制备方法 | 第25-29页 |
| ·射频磁控溅射技术基本原理及特点 | 第26-27页 |
| ·实验设备 | 第27-29页 |
| 3 ZnO薄膜的表征 | 第29-40页 |
| ·电子探针技术(EPMA) | 第29-30页 |
| ·X射线衍射技术(X-ray diffraction,XRD) | 第30-33页 |
| ·X射线衍射技术原理 | 第30-31页 |
| ·X射线衍射技术分析方法 | 第31-33页 |
| ·X射线衍射仪的使用 | 第33页 |
| ·透射电子显微镜(Transmission Electron Microscope,TEM) | 第33-34页 |
| ·透射光谱 | 第34-36页 |
| ·透射光谱拟合获得薄膜膜厚 | 第35-36页 |
| ·利用透射谱测定薄膜光学带隙 | 第36页 |
| ·光致发光光谱(PL) | 第36-38页 |
| ·拉曼光谱(UV Raman) | 第38-40页 |
| 4 Cu掺杂ZnO结构、能带及光学性质的理论与实验研究 | 第40-47页 |
| ·Zn_(1-x)Cu_xO薄膜的制备、分析及理论计算 | 第40-42页 |
| ·Zn_(1-x)Cu_xO薄膜的制备 | 第40-41页 |
| ·Zn_(1-x)Cu_xO薄膜的分析 | 第41页 |
| ·Zn_(1-x)Cu_xO第一性原理计算模型 | 第41-42页 |
| ·结果与分析 | 第42-46页 |
| ·Zn_(1-x)Cu_xO薄膜结晶特性的实验与理论分析 | 第42-44页 |
| ·ZnCuO薄膜光学特性的实验与理论分析 | 第44-46页 |
| ·本章小结 | 第46-47页 |
| 5 Ag掺杂ZnO薄膜的结构与光学性质 | 第47-52页 |
| ·ZnAgO薄膜的制备方法 | 第47页 |
| ·结果与分析 | 第47-51页 |
| ·ZnAgO薄膜的结构性质 | 第47-49页 |
| ·ZnAgO薄膜的光学性质 | 第49-51页 |
| ·本章小结 | 第51-52页 |
| 6 ZnO薄膜光谱中的干涉现象 | 第52-57页 |
| ·ZnO薄膜光谱中的干涉现象 | 第52-54页 |
| ·ZnO薄膜光谱中的干涉现象的的理论模型 | 第54页 |
| ·干涉现象对ZnO薄膜光谱的影响 | 第54-56页 |
| ·角度对ZnO薄膜光谱的影响 | 第54-55页 |
| ·膜厚对ZnO薄膜光谱的影响 | 第55-56页 |
| ·本章小结 | 第56-57页 |
| 结论 | 第57-58页 |
| 参考文献 | 第58-64页 |
| 攻读硕士学位期间发表学术论文情况 | 第64-65页 |
| 致谢 | 第65-66页 |
