磁控溅射沉积氮化铝薄膜及其光学性能的研究
| 摘要 | 第1-4页 |
| ABSTRACT | 第4-8页 |
| 第1章 绪论 | 第8-14页 |
| ·AlN晶体结构 | 第8-9页 |
| ·AlN的基本性质及应用 | 第9-10页 |
| ·AlN薄膜国内外研究进展 | 第10-11页 |
| ·AlN薄膜的性能 | 第11-12页 |
| ·本文主要研究内容 | 第12-14页 |
| 第2章 直流磁控溅射法制备薄膜的基本原理 | 第14-19页 |
| ·薄膜形成过程及溅射镀膜原理 | 第14-19页 |
| ·薄膜的形成过程 | 第14-15页 |
| ·溅射镀膜原理 | 第15-19页 |
| 第3章 AlN薄膜的制备方法及测试分析方法 | 第19-27页 |
| ·实验设备 | 第19页 |
| ·实验材料 | 第19-20页 |
| ·实验技术路线 | 第20页 |
| ·薄膜制备过程 | 第20-23页 |
| ·基片清洗 | 第20-21页 |
| ·AlN薄膜制备 | 第21-22页 |
| ·基准溅射工艺参数 | 第22-23页 |
| ·AlN薄膜的结构与性能测试 | 第23-27页 |
| ·物相分析 | 第23-24页 |
| ·表面形貌分析 | 第24-25页 |
| ·红外光谱测试 | 第25-26页 |
| ·透射光谱测试 | 第26-27页 |
| 第4章 工艺参数对AlN薄膜的影响 | 第27-58页 |
| ·工作气压对AlN薄膜结构与性能的影响 | 第27-36页 |
| ·工作气压对AlN薄膜结晶取向的影响 | 第27-28页 |
| ·工作气压对AlN薄膜沉积速率的影响 | 第28-29页 |
| ·工作气压对AlN薄膜表面形貌的影响 | 第29-31页 |
| ·工作气压对AlN薄膜光学性能的影响 | 第31-36页 |
| ·基底温度对AlN薄膜结构与性能的影响 | 第36-43页 |
| ·基底温度对AlN薄膜结晶取向的影响 | 第36-37页 |
| ·基底温度对AlN薄膜沉积速率的影响 | 第37-38页 |
| ·基底温度对AlN薄膜表面形貌的影响 | 第38-40页 |
| ·基底温度对AlN薄膜光学性能的影响 | 第40-43页 |
| ·溅射电流对AlN薄膜结构与性能的影响 | 第43-50页 |
| ·溅射电流对AlN薄膜结晶取向的影响 | 第44-45页 |
| ·溅射电流对AlN薄膜沉积速率的影响 | 第45-46页 |
| ·溅射电流对AlN薄膜表面形貌的影响 | 第46-47页 |
| ·溅射电流对AlN薄膜光学性能的影响 | 第47-50页 |
| ·氮气含量对AlN薄膜结构与性能的影响 | 第50-58页 |
| ·氮气含量对AlN薄膜结晶取向的影响 | 第51-52页 |
| ·氮气含量对AlN薄膜沉积速率的影响 | 第52-53页 |
| ·氮气含量对AlN薄膜表面形貌的影响 | 第53-55页 |
| ·氮气含量对AlN薄膜光学性能的影响 | 第55-58页 |
| 第5章 结论 | 第58-60页 |
| 致谢 | 第60-61页 |
| 参考文献 | 第61-66页 |
| 攻读学位期间所发表的学术论文 | 第66页 |
