| 摘要 | 第5-6页 |
| abstract | 第6-7页 |
| 第一章 绪论 | 第10-18页 |
| 1.1 太赫兹波研究背景及意义 | 第10-11页 |
| 1.2 太赫兹波调控技术 | 第11-16页 |
| 1.3 论文研究内容 | 第16-18页 |
| 第二章 硅基微结构的太赫兹波特性研究 | 第18-36页 |
| 2.1 硅基微结构在太赫兹波中的应用 | 第18-19页 |
| 2.2 硅基微增透结构的设计与仿真 | 第19-27页 |
| 2.2.1 硅基微增透结构的原理 | 第19-21页 |
| 2.2.2 硅基微增透结构的仿真 | 第21-27页 |
| 2.3 硅基微增透结构的制备 | 第27-30页 |
| 2.4 硅基微增透结构太赫兹波增透性能的测试与分析 | 第30-34页 |
| 2.4.1 太赫兹测试与表征系统搭建 | 第30-32页 |
| 2.4.2 硅基微结构太赫兹性能测试与分析 | 第32-34页 |
| 2.5 本章小结 | 第34-36页 |
| 第三章 硅基复合结构的全光控THz调制器研究 | 第36-44页 |
| 3.1 硅基微结构THz光调控性能的分析 | 第36-37页 |
| 3.2 硅基复合结构全光控器件的设计与制备 | 第37-39页 |
| 3.3 硅基复合结构的THz调制器性能测试与分析 | 第39-42页 |
| 3.3.1 808 nm激光作用下的性能测试 | 第39-41页 |
| 3.3.2 638 nm激光作用下的性能测试 | 第41-42页 |
| 3.4 本章小结 | 第42-44页 |
| 第四章 基于硅基微结构的电控THz调制器研究 | 第44-57页 |
| 4.1 基于硅基微结构的电控THz调制器设计 | 第44-46页 |
| 4.2 硅基VO_2薄膜制备研究 | 第46-52页 |
| 4.2.1 VO_2薄膜简介及其主要制备方法 | 第46-47页 |
| 4.2.2 VO_2薄膜特性表征方法 | 第47-48页 |
| 4.2.3 硅基VO_2薄膜的制备工艺优化 | 第48-52页 |
| 4.3 硅基微结构与VO_2薄膜复合结构的电控THz调制特性研究 | 第52-56页 |
| 4.3.1 硅基微结构与VO_2薄膜复合结构的THz调制器的制备 | 第52-53页 |
| 4.3.2 硅基微结构与VO_2薄膜复合结构的THz性能测试与分析 | 第53-56页 |
| 4.4 本章小结 | 第56-57页 |
| 第五章 总结与展望 | 第57-59页 |
| 5.1 总结 | 第57-58页 |
| 5.2 展望 | 第58-59页 |
| 致谢 | 第59-60页 |
| 参考文献 | 第60-64页 |
| 攻读硕士学位期间取得的成果 | 第64页 |
