| 摘要 | 第4-5页 |
| Abstract | 第5页 |
| 引言 | 第8-10页 |
| 1 绪论 | 第10-18页 |
| 1.1 光催化技术 | 第10-13页 |
| 1.1.1 光催化研究背景 | 第10页 |
| 1.1.2 光催化反应的基本原理 | 第10-11页 |
| 1.1.3 光催化技术的应用 | 第11-13页 |
| 1.2 光催化材料的研究进展 | 第13-15页 |
| 1.2.1 金属掺杂光催化剂 | 第13-14页 |
| 1.2.2 非金属掺杂光催化剂 | 第14页 |
| 1.2.3 复合半导体光催化剂 | 第14-15页 |
| 1.3 光催化助催化剂的研究进展 | 第15-16页 |
| 1.3.1 氧化助催化剂 | 第15页 |
| 1.3.2 还原助催化剂 | 第15-16页 |
| 1.4 理论计算的应用 | 第16-17页 |
| 1.5 选题意义及主要工作 | 第17-18页 |
| 2 理论与计算方法 | 第18-22页 |
| 2.1 Hartree-Fork近似 | 第18页 |
| 2.2 密度泛函理论 | 第18-19页 |
| 2.2.1 Thomas-Fermi模型 | 第18-19页 |
| 2.2.2 Hohenberg-Kohn定理 | 第19页 |
| 2.2.3 Kohn-Sham方程 | 第19页 |
| 2.3 交换关联泛函 | 第19-20页 |
| 2.4 本文使用的软件包 | 第20-22页 |
| 3 α-G_2O_3(001)表面负载Ni_n团簇的理论研究 | 第22-37页 |
| 3.1 引言 | 第22-23页 |
| 3.2 计算方法及模型 | 第23-24页 |
| 3.3 结果与讨论 | 第24-36页 |
| 3.3.1 Ni_n团簇在α-Ga_2O_3(001)表面上的吸附 | 第24-29页 |
| 3.3.2 电子结构 | 第29-31页 |
| 3.3.3 (001)表面上产氢反应(HER)机理 | 第31-36页 |
| 3.4 本章小结 | 第36-37页 |
| 4 α-Ga_2O_3(012)表面担载Ni_n团簇的理论研究 | 第37-50页 |
| 4.1 引言 | 第37页 |
| 4.2 计算方法与模型 | 第37-38页 |
| 4.3 结果与讨论 | 第38-49页 |
| 4.3.1 Ni_n团簇在α-Ga_2O_3(012)表面上的吸附 | 第38-43页 |
| 4.3.2 电子结构 | 第43-44页 |
| 4.3.3 (012)表面上的产氢反应(HER)机理 | 第44-49页 |
| 4.4 本章小结 | 第49-50页 |
| 结论 | 第50-51页 |
| 参考文献 | 第51-57页 |
| 攻读硕士学位期间发表学术论文情况 | 第57-58页 |
| 致谢 | 第58页 |
