| 摘要 | 第4-5页 |
| Abstract | 第5页 |
| 1 绪论 | 第8-14页 |
| 1.1 引言 | 第8页 |
| 1.2 飞秒脉冲激光的发展 | 第8-9页 |
| 1.3 强激光烧蚀固体材料的研究进展 | 第9-11页 |
| 1.4 强激光烧蚀熔石英光学元件的研究目的和意义 | 第11-12页 |
| 1.5 本论文主要内容和安排 | 第12-14页 |
| 2 实验方法及设备 | 第14-22页 |
| 2.1 实验原理和方法 | 第14-17页 |
| 2.1.1 泵浦-探测技术原理 | 第14-15页 |
| 2.1.2 实验系统 | 第15-17页 |
| 2.2 实验设备 | 第17-22页 |
| 2.2.1 纳秒激光系统 | 第17页 |
| 2.2.2 飞秒激光放大系统 | 第17-20页 |
| 2.2.3 其它实验设备 | 第20-22页 |
| 3 纳秒激光烧蚀熔石英的超快成像过程 | 第22-43页 |
| 3.1 强激光烧蚀固体材料的物理过程 | 第22-24页 |
| 3.1.1 激光烧蚀材料过程的基本物理图像 | 第22页 |
| 3.1.2 纳秒脉冲激光烧蚀固体材料的物理图像 | 第22-24页 |
| 3.2 纳秒激光烧蚀熔石英的超快过程 | 第24-32页 |
| 3.2.1 纳秒激光烧蚀熔石英前表面的超快诊断 | 第25-26页 |
| 3.2.2 纳秒激光烧蚀熔石英后表面的超快诊断 | 第26-29页 |
| 3.2.3 纳秒激光作用于熔石英体内的超快诊断 | 第29-32页 |
| 3.3 纳秒激光烧蚀熔石英前后表面的对比分析 | 第32-34页 |
| 3.4 冲击波在空气和熔石英界面反射的超快诊断 | 第34-39页 |
| 3.5 纳秒激光烧蚀单晶硅的超快成像研究 | 第39-41页 |
| 3.6 本章小结 | 第41-43页 |
| 4 飞秒激光烧蚀熔石英的超快诊断 | 第43-60页 |
| 4.1 飞秒激光烧蚀透明电介质材料的理论 | 第43-45页 |
| 4.2 实验装置 | 第45-46页 |
| 4.3 飞秒激光烧蚀熔石英的超快光学诊断 | 第46-51页 |
| 4.3.1 飞秒激光烧蚀熔石英前表面的超快诊断 | 第46-48页 |
| 4.3.2 飞秒激光与熔石英作用产生冲击波的超快诊断 | 第48-50页 |
| 4.3.3 不同放大倍数条件下的CCD成像研究 | 第50-51页 |
| 4.4 飞秒激光与熔石英及水作用的非线性效应 | 第51-55页 |
| 4.4.1 飞秒激光烧与石英作用的自聚焦与成丝 | 第51-54页 |
| 4.4.2 飞秒激光在水中成丝及诱导熔石英损伤的超快诊断 | 第54-55页 |
| 4.5 飞秒激光烧蚀熔石英与K9玻璃及单晶硅材料的超快诊断 | 第55-59页 |
| 4.5.1 飞秒激光烧蚀单晶硅的超快诊断 | 第55-57页 |
| 4.5.2 飞秒激光烧蚀K9玻璃与熔石英的超快诊断 | 第57-59页 |
| 4.6 本章小结 | 第59-60页 |
| 结论 | 第60-61页 |
| 致谢 | 第61-62页 |
| 参考文献 | 第62-69页 |
| 攻读硕士学位期间发表的学术论文 | 第69页 |
| 攻读硕士学位期间参加的科研项目 | 第69页 |
