热红外成像光谱仪定标技术研究
| 致谢 | 第4-5页 |
| 摘要 | 第5-6页 |
| ABSTRACT | 第6页 |
| 1 引言 | 第9-15页 |
| 1.1 研究背景及研究意义 | 第9-10页 |
| 1.2 高光谱图像数据的特点 | 第10-11页 |
| 1.3 热红外高光谱成像的应用 | 第11-12页 |
| 1.4 定标的发展历程 | 第12-13页 |
| 1.5 课题的主要研究内容 | 第13-15页 |
| 2 热红外高光谱成像系统介绍 | 第15-20页 |
| 2.1 成像光谱仪热红外模块的基本原理 | 第15-16页 |
| 2.2 系统的组成与特点 | 第16-17页 |
| 2.3 系统的信号流及定量化需求 | 第17-20页 |
| 2.3.1 背景辐射信号 | 第17-18页 |
| 2.3.2 探测器的暗电流信号 | 第18页 |
| 2.3.3 系统响应特性 | 第18-19页 |
| 2.3.4 系统的定量化 | 第19-20页 |
| 3 成像光谱仪热红外模块的光谱定标 | 第20-45页 |
| 3.1 成像光谱仪光谱定标的特点 | 第21页 |
| 3.2 光谱定标的基本方法与研究 | 第21-25页 |
| 3.2.1 单色仪波长扫描法 | 第22-24页 |
| 3.2.2 特征光谱法 | 第24-25页 |
| 3.2.3 三次样条插值法 | 第25页 |
| 3.3 基于单色仪波长扫描法的实验室光谱定标 | 第25-45页 |
| 3.3.1 固定波长扫描实验 | 第28-31页 |
| 3.3.2 全波段扫描实验 | 第31-44页 |
| 3.3.3 误差分析 | 第44-45页 |
| 4 成像光谱仪热红外模块的辐射定标 | 第45-64页 |
| 4.1 成像光谱仪辐射定标的特点 | 第45-46页 |
| 4.2 辐射定标的基本方法和研究 | 第46-56页 |
| 4.2.1 绝对辐射定标 | 第46-49页 |
| 4.2.2 相对辐射定标 | 第49-55页 |
| 4.2.3 机上/星上定标 | 第55页 |
| 4.2.4 定标场定标 | 第55-56页 |
| 4.3 实验室辐射定标 | 第56-64页 |
| 4.3.1 基于温度校正的实验室辐射定标 | 第56-60页 |
| 4.3.2 实验室绝对辐射定标 | 第60-64页 |
| 5 数据预处理研究 | 第64-78页 |
| 5.1 热红外焦平面盲元校正方法研究 | 第64-70页 |
| 5.1.1 盲元的产生机理 | 第64-66页 |
| 5.1.2 盲元检测 | 第66-67页 |
| 5.1.3 盲元补偿 | 第67-70页 |
| 5.2 差值均衡法去除剩余非均匀性 | 第70-75页 |
| 5.3 偏差补偿法去除非均匀性噪声 | 第75-78页 |
| 6 总结与展望 | 第78-79页 |
| 参考文献 | 第79-81页 |
| 作者简介及在学期间发表的学术论文与研究成果 | 第81页 |
