| 摘要 | 第1-7页 |
| ABSTRACT | 第7-8页 |
| 第一章 前言 | 第8-16页 |
| ·脉冲激光烧蚀和脉冲激光等离子体 | 第8-11页 |
| ·ECR微波放电和ECR等离子体 | 第11-12页 |
| ·ECR-PLA等离子体 | 第12-13页 |
| ·光发射谱测量 | 第13-15页 |
| ·论文内容概述 | 第15-16页 |
| 第二章 实验装置介绍 | 第16-20页 |
| ·脉冲激光烧蚀装置 | 第16-17页 |
| ·ECR等离子体源 | 第17-18页 |
| ·时空分辨光谱测量装置 | 第18-20页 |
| 第三章 ECR氮等离子体对PLA等离子体的作用 | 第20-46页 |
| ·真空和氮气中的PLA等离子体 | 第20-35页 |
| ·真空和氮气中的PLA铝等离子体 | 第21-28页 |
| ·真空和氮气中的PLA碳等离子体 | 第28-33页 |
| ·真空和氮气中的PLA碳/硼等离子体 | 第33-35页 |
| ·ECR氮等离子体对PLA等离子体的作用 | 第35-45页 |
| ·ECR氮等离子体背景下的PLA铝等离子体 | 第35-42页 |
| ·ECR氮等离子体背景下的PLA碳和硼/碳等离子体 | 第42-45页 |
| ·本章小结 | 第45-46页 |
| 第四章 PLA等离子体对ECR氮等离子体的增强激发 | 第46-60页 |
| ·ECR氮等离子体的光谱 | 第46-50页 |
| ·PLA等离子体对ECR氮等离子体的增强 | 第50-53页 |
| ·PLA等离子体对背景气氛激发增强的时间特性 | 第53-55页 |
| ·在不同背景气氛下氮分子离子谱线的OTOF光谱 | 第55-59页 |
| ·本章小结 | 第59-60页 |
| 第五章 ECR-PLA中的气相反应 | 第60-72页 |
| ·ECR-PLA等离子体的高活性 | 第60-61页 |
| ·C_2分子光谱 | 第61-66页 |
| ·PLA碳等离子体在ECR氮等离子体中膨胀时C_2分子光谱的时空特性 | 第61-65页 |
| ·PLA硼/碳等离子体在ECR氮等离子体中膨胀时C_2分子光谱的时空特性 | 第65-66页 |
| ·CN分子光谱 | 第66-70页 |
| ·PLA碳等离子体在ECR氮等离子体中膨胀时CN分子光谱的时空演变特性 | 第66-67页 |
| ·PLA硼/碳等离子体在ECR氮等离子体中膨胀时CN分子光谱的时空演变特性 | 第67-70页 |
| ·本章小结 | 第70-72页 |
| 第六章 总结与展望 | 第72-74页 |
| 参考文献 | 第74-77页 |
| 致谢 | 第77-78页 |
