| 摘要 | 第5-6页 |
| Abstract | 第6-7页 |
| 第一章 绪论 | 第8-19页 |
| 1.1 引言 | 第8页 |
| 1.2 ZnO 的性质及其应用 | 第8-14页 |
| 1.3 ZnO 晶体的研究进展 | 第14-16页 |
| 1.4 本论文的研究思路 | 第16-17页 |
| 参考文献 | 第17-19页 |
| 第二章 ZnO 薄膜的制备及测试 | 第19-37页 |
| 2.1 ZnO 薄膜的主要制备技术 | 第19-25页 |
| 2.2 磁控溅射制备ZnO 薄膜的特性 | 第25-29页 |
| 2.3 测试技术 | 第29-35页 |
| 2.4 本章小结 | 第35-36页 |
| 参考文献 | 第36-37页 |
| 第三章 不同掺杂量及不同实验条件对 ZnO 薄膜结构及其荧光发射的影响 | 第37-49页 |
| 3.1 Al 掺杂对ZnO 薄膜结构及其荧光发射的影响 | 第37-40页 |
| 3.2 氧氩比变化对ZnO 薄膜结构及其荧光发射的影响 | 第40-43页 |
| 3.3 不同溅射功率对ZnO 薄膜结构及其荧光发射的影响 | 第43-46页 |
| 3.4 本章小结 | 第46-48页 |
| 参考文献 | 第48-49页 |
| 第四章 总结与展望 | 第49-51页 |
| 4.1 总结 | 第49页 |
| 4.2 展望 | 第49-51页 |
| 致谢 | 第51-52页 |
| 附录:作者在攻读硕士期间发表和已完成的论文 | 第52页 |