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射频溅射法制备GBCO超导薄膜的研究

摘要第5-7页
ABSTRACT第7-8页
目录第9-11页
第一章 绪论第11-30页
    1.1 超导现象的发现第11-14页
        1.1.1 零电阻效应第11-13页
        1.1.2 迈纳斯效应第13-14页
        1.1.3 约瑟夫森效应第14页
    1.2 超导研究发展及其微观机制第14-18页
        1.2.1 二流体模型第15-16页
        1.2.2 同位素效应第16-17页
        1.2.3 BCS 理论第17-18页
    1.3 超导的应用第18-20页
        1.3.1 超导在电力和国防工业上的应用第18-19页
        1.3.2 超导在微电子、通信行业上的应用第19页
        1.3.3 超导在交通运输和医疗行业中的应用第19-20页
    1.4 超导带材制备工艺的发展第20-28页
        1.4.1 低温超导材料第20-21页
        1.4.2 高温超导材料第21-22页
        1.4.3 第一代高温超导带材制备技术第22-24页
        1.4.4 第二代高温超导带材制备技术第24-28页
    1.5 本论文的选题依据和研究方案第28-30页
第二章 试验方法原理及样品表征手段第30-42页
    2.1 镀膜方法及原理第30-35页
        2.1.1 脉冲激光沉积(PLD,Pulsed Laser Deposition)第30-33页
        2.1.2 射频溅射(RF Magnetic Sputtering )第33-35页
    2.2 主要分析测试设备与方法第35-42页
        2.2.1 X 射线衍射(X-Ray Diffraction)第35-38页
        2.2.2 原子力显微镜(AFM, Atom Force Microscope)第38-40页
        2.2.3 扫描电子显微镜(Scanning Electric Microscope)第40-42页
第三章 射频溅射法制备GdBaCuO_7-8 研究第42-65页
    3.1 薄膜生长与实验设计第44-45页
    3.2 温度的影响第45-51页
        3.2.1 温度对薄膜微结构的影响第46-48页
        3.2.2 温度对样品表面形貌的影响第48-50页
        3.2.3 小结第50-51页
    3.3 氧气氩气比例的影响第51-58页
        3.3.1 实验内容第51页
        3.3.2 微结构第51-54页
        3.3.3 表面形貌第54-58页
        3.3.4 结论第58页
    3.4 总压强的影响第58-65页
        3.4.1 不同压强对薄膜微观结构的影响第59-60页
        3.4.2 不同气压对薄膜表面形貌的影响第60-64页
        3.4.3 讨论与结论第64-65页
第四章 结论第65-66页
参考文献第66-72页
致谢第72-73页
攻读硕士学位期间发表或录用的论文第73页

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