摘要 | 第5-7页 |
ABSTRACT | 第7-8页 |
目录 | 第9-11页 |
第一章 绪论 | 第11-30页 |
1.1 超导现象的发现 | 第11-14页 |
1.1.1 零电阻效应 | 第11-13页 |
1.1.2 迈纳斯效应 | 第13-14页 |
1.1.3 约瑟夫森效应 | 第14页 |
1.2 超导研究发展及其微观机制 | 第14-18页 |
1.2.1 二流体模型 | 第15-16页 |
1.2.2 同位素效应 | 第16-17页 |
1.2.3 BCS 理论 | 第17-18页 |
1.3 超导的应用 | 第18-20页 |
1.3.1 超导在电力和国防工业上的应用 | 第18-19页 |
1.3.2 超导在微电子、通信行业上的应用 | 第19页 |
1.3.3 超导在交通运输和医疗行业中的应用 | 第19-20页 |
1.4 超导带材制备工艺的发展 | 第20-28页 |
1.4.1 低温超导材料 | 第20-21页 |
1.4.2 高温超导材料 | 第21-22页 |
1.4.3 第一代高温超导带材制备技术 | 第22-24页 |
1.4.4 第二代高温超导带材制备技术 | 第24-28页 |
1.5 本论文的选题依据和研究方案 | 第28-30页 |
第二章 试验方法原理及样品表征手段 | 第30-42页 |
2.1 镀膜方法及原理 | 第30-35页 |
2.1.1 脉冲激光沉积(PLD,Pulsed Laser Deposition) | 第30-33页 |
2.1.2 射频溅射(RF Magnetic Sputtering ) | 第33-35页 |
2.2 主要分析测试设备与方法 | 第35-42页 |
2.2.1 X 射线衍射(X-Ray Diffraction) | 第35-38页 |
2.2.2 原子力显微镜(AFM, Atom Force Microscope) | 第38-40页 |
2.2.3 扫描电子显微镜(Scanning Electric Microscope) | 第40-42页 |
第三章 射频溅射法制备GdBaCuO_7-8 研究 | 第42-65页 |
3.1 薄膜生长与实验设计 | 第44-45页 |
3.2 温度的影响 | 第45-51页 |
3.2.1 温度对薄膜微结构的影响 | 第46-48页 |
3.2.2 温度对样品表面形貌的影响 | 第48-50页 |
3.2.3 小结 | 第50-51页 |
3.3 氧气氩气比例的影响 | 第51-58页 |
3.3.1 实验内容 | 第51页 |
3.3.2 微结构 | 第51-54页 |
3.3.3 表面形貌 | 第54-58页 |
3.3.4 结论 | 第58页 |
3.4 总压强的影响 | 第58-65页 |
3.4.1 不同压强对薄膜微观结构的影响 | 第59-60页 |
3.4.2 不同气压对薄膜表面形貌的影响 | 第60-64页 |
3.4.3 讨论与结论 | 第64-65页 |
第四章 结论 | 第65-66页 |
参考文献 | 第66-72页 |
致谢 | 第72-73页 |
攻读硕士学位期间发表或录用的论文 | 第73页 |