| 摘要 | 第5-7页 |
| Abstract | 第7-9页 |
| 第1章 绪论 | 第13-25页 |
| 1.1 课题研究背景及意义 | 第13-15页 |
| 1.2 衍射光栅的研究历史与现状 | 第15-18页 |
| 1.3 超环面全息光栅研究历史和应用 | 第18-22页 |
| 1.4 论文主要研究内容与结构安排 | 第22-25页 |
| 1.4.1 论文主要研究内容 | 第22-23页 |
| 1.4.2 论文的结构安排 | 第23-25页 |
| 第2章 超环面全息光栅理论基础 | 第25-45页 |
| 2.1 引言 | 第25-26页 |
| 2.2 超环面全息光栅的符号规则 | 第26-27页 |
| 2.3 衍射光栅的光程函数推导 | 第27-30页 |
| 2.4 超环面全息光栅的光程函数理论推导 | 第30-36页 |
| 2.5 超环面全息光栅的光线追迹理论推导 | 第36-43页 |
| 2.6 本章小结 | 第43-45页 |
| 第3章 超环面全息光栅优化设计 | 第45-73页 |
| 3.1 引言 | 第45-46页 |
| 3.2 超环面全息光栅光程函数优化设计理论 | 第46-51页 |
| 3.3 超环面全息光栅平衡像差优化设计法 | 第51-60页 |
| 3.3.1 超环面全息光栅光程像差函数 | 第52-53页 |
| 3.3.2 超环面全息光栅刻线密度分布函数 | 第53-54页 |
| 3.3.3 超环面全息光栅光线追迹点列图均方根函数 | 第54-58页 |
| 3.3.4 超环面全息光栅平衡像差优化设计算法 | 第58-60页 |
| 3.4 平衡像差优化设计法的应用 | 第60-71页 |
| 3.4.1 平衡像差优化设计法的验证 | 第60-63页 |
| 3.4.2 平衡像差优化设计法在超环面全息光栅设计中的应用 | 第63-71页 |
| 3.5 本章小结 | 第71-73页 |
| 第4章 超环面全息光栅匀胶模型 | 第73-93页 |
| 4.1 引言 | 第73-75页 |
| 4.2 旋转涂覆理论简介 | 第75-76页 |
| 4.3 牛顿粘滞定律与流体分类 | 第76-80页 |
| 4.4 超环面全息光栅旋转涂覆光刻胶模型 | 第80-89页 |
| 4.5 匀胶模型的适用性讨论 | 第89-91页 |
| 4.6 本章小结 | 第91-93页 |
| 第5章 超环面全息光栅参数误差及补偿 | 第93-125页 |
| 5.1 引言 | 第93-94页 |
| 5.2 光谱综合性能评价函数 | 第94-99页 |
| 5.3 超环面全息光栅记录参数和使用参数误差的分析和补偿 | 第99-123页 |
| 5.3.1 超环面全息光栅使用参数误差分析与补偿 | 第100-106页 |
| 5.3.2 超环面全息光栅记录参数误差分析与补偿 | 第106-114页 |
| 5.3.3 超环面全息光栅基底曲率半径误差分析与补偿 | 第114-119页 |
| 5.3.4 超环面全息光栅基底匀胶参数误差分析与补偿 | 第119-123页 |
| 5.4 本章小结 | 第123-125页 |
| 第6章 超环面全息光栅制作技术研究 | 第125-145页 |
| 6.1 引言 | 第125-126页 |
| 6.2 超环面全息光栅制作工艺简介 | 第126-129页 |
| 6.3 匀胶实验 | 第129-136页 |
| 6.3.1 光刻胶厚度理论分布曲线和参数 | 第130-132页 |
| 6.3.2 不同条件下的光刻胶厚度分布 | 第132-134页 |
| 6.3.3 原子力显微镜与椭偏仪测量值对比 | 第134-136页 |
| 6.4 匀胶工艺缺陷分析 | 第136-137页 |
| 6.5 用于宽波段光栅单色仪的超环面全息光栅制作 | 第137-143页 |
| 6.5.1 超环面全息光栅的参数确定 | 第138-141页 |
| 6.5.2 超环面全息光栅曝光光路设计与搭建 | 第141-142页 |
| 6.5.3 超环面全息光栅制作 | 第142-143页 |
| 6.6 本章小结 | 第143-145页 |
| 第7章 结论与展望 | 第145-147页 |
| 7.1 论文工作总结 | 第145-146页 |
| 7.2 展望 | 第146-147页 |
| 参考文献 | 第147-157页 |
| 在学期间学术成果情况 | 第157-159页 |
| 指导教师及作者简介 | 第159-160页 |
| 致谢 | 第160-161页 |
