摘要 | 第5-6页 |
ABSTRACT | 第6-7页 |
第一章 绪论 | 第11-19页 |
1.1 研究工作的背景与意义 | 第11-13页 |
1.2 国内外研究历史与现状 | 第13-16页 |
1.3 本论文的主要内容 | 第16-17页 |
1.4 本文的创新点 | 第17-19页 |
第二章 光波导和谐振器基本理论 | 第19-32页 |
2.1 波动方程 | 第19-21页 |
2.1.1 麦克斯韦方程组 | 第19-20页 |
2.1.2 亥姆霍兹方程组 | 第20-21页 |
2.2 平板波导 | 第21-24页 |
2.3 条形波导 | 第24-25页 |
2.4 光波导的数值计算方法 | 第25-26页 |
2.5 光学谐振器理论 | 第26-31页 |
2.5.1 谐振器的基本类型 | 第27-28页 |
2.5.1.1 驻波谐振器 | 第27页 |
2.5.1.2 行波谐振器 | 第27-28页 |
2.5.2 表征谐振器的光学参数 | 第28-30页 |
2.5.2.1 自由光谱范围 | 第28页 |
2.5.2.2 品质因子和精细度 | 第28-29页 |
2.5.2.3 传输损耗 | 第29页 |
2.5.2.4 消光比和耦合机制 | 第29-30页 |
2.5.3 微环谐振器 | 第30-31页 |
2.6 本章小结 | 第31-32页 |
第三章 实验制备手段和测试方法 | 第32-40页 |
3.1 薄膜制备 | 第32-33页 |
3.1.1 电子束蒸发镀膜法 | 第32-33页 |
3.1.2 磁控溅射镀膜法 | 第33页 |
3.2 光刻 | 第33-34页 |
3.2.1 紫外光刻 | 第33-34页 |
3.2.2 电子束光刻 | 第34页 |
3.3 干法刻蚀 | 第34-35页 |
3.4 材料表征 | 第35-38页 |
3.4.1 扫描电子显微镜 | 第35页 |
3.4.2 X射线衍射仪 | 第35-36页 |
3.4.3 紫外-可见分光光度计 | 第36-37页 |
3.4.4 傅里叶变换红外光谱仪 | 第37-38页 |
3.4.5 椭偏仪 | 第38页 |
3.4.6 原子力显微镜 | 第38页 |
3.5 波导测试系统 | 第38-40页 |
第四章 高K材料的制备和表征 | 第40-51页 |
4.1 Zr_(1-x)Ti_xO_2薄膜 | 第40-44页 |
4.1.1 Zr_(1-x)Ti_xO_2薄膜的制备 | 第40页 |
4.1.2 Zr_(1-x)Ti_xO_2薄膜的结构 | 第40-42页 |
4.1.3 Zr_(1-x)Ti_xO_2薄膜的光学性质 | 第42-44页 |
4.2 Hf_(1-x) TixO_2薄膜 | 第44-50页 |
4.2.1 Hf_(1-x) TixO_2薄膜的制备 | 第44-45页 |
4.2.2 Hf_(1-x) TixO_2薄膜的结构、形貌和价态 | 第45-48页 |
4.2.3 Hf_(1-x) TixO_2薄膜的光学性质 | 第48-50页 |
4.3 本章小结 | 第50-51页 |
第五章 近红外波导的制备和表征 | 第51-65页 |
5.1 波导结构对波导模式的影响 | 第51-53页 |
5.1.1 通道波导结构对波导模式的影响 | 第51-52页 |
5.1.2 脊型波导结构对波导模式的影响 | 第52-53页 |
5.2 HfO_2近红外波导的制备和测试 | 第53-63页 |
5.2.1 光刻和剥离工艺制备 | 第53-62页 |
5.2.1.1 基片清洗 | 第53页 |
5.2.1.2 曝光 | 第53-57页 |
5.2.1.3 沉积薄膜 | 第57页 |
5.2.1.4 剥离 | 第57-58页 |
5.2.1.5 波导测试 | 第58-62页 |
5.2.2 光刻和刻蚀工艺制备 | 第62-63页 |
5.3 本章小结 | 第63-65页 |
第六章 中红外波导的制备和表征 | 第65-70页 |
6.1 Ge_(23)Sb_7S_(70)/Zr_(0.6)Ti_(0.4)O_2中红外波导的制备和测试 | 第65-67页 |
6.1.1 中红外波导的制备 | 第65页 |
6.1.2 中红外波导的测试 | 第65-67页 |
6.2 ZrO_2中红外波导和谐振器 | 第67-69页 |
6.3 本章小结 | 第69-70页 |
第七章 结论与展望 | 第70-71页 |
致谢 | 第71-72页 |
参考文献 | 第72-77页 |
攻读硕士学位期间取得的成果 | 第77-78页 |