摘要 | 第4-6页 |
ABSTRACT | 第6-7页 |
第一章 绪论 | 第14-22页 |
1.1 研究背景 | 第14-15页 |
1.2 金属氧化物催化剂的SCR反应机理 | 第15-17页 |
1.2.1 钒钛脱硝催化剂的SCR反应机理 | 第15-17页 |
1.2.2 铜基SCR催化剂的反应机理 | 第17页 |
1.3 脱硝催化剂的失活 | 第17-18页 |
1.4 SO_2对SCR脱硝催化剂的影响 | 第18-19页 |
1.5 密度泛函理论在SCR脱硝催化剂领域研究现状 | 第19-20页 |
1.6 选题依据及研究内容 | 第20-22页 |
第二章 实验及理论方法 | 第22-26页 |
2.1 催化剂的制备 | 第22-23页 |
2.1.1 实验原料 | 第22页 |
2.1.2 实验仪器 | 第22-23页 |
2.1.3 V_2O_5-WO_3/TiO_2催化剂的制备 | 第23页 |
2.2 催化剂表征 | 第23-25页 |
2.2.1 活性评价 | 第23-24页 |
2.2.2 元素含量分析 | 第24页 |
2.2.3 扫描电镜(SEM)分析 | 第24页 |
2.2.4 比表面积及孔结构分析 | 第24页 |
2.2.5 X射线光电子能谱(XPS)分析 | 第24页 |
2.2.6 NH_3程序升温脱附(NH3-TPD) | 第24-25页 |
2.2.7 催化剂氧化性分析 | 第25页 |
2.3 计算方法 | 第25-26页 |
第三章 不同中毒方法对钒钛催化剂钾中毒的影响 | 第26-42页 |
3.1 引言 | 第26页 |
3.2 模拟中毒方法 | 第26-28页 |
3.2.1 浸渍法(Wet impregnation) | 第27页 |
3.2.2 固体扩散法(Solid diffusion) | 第27页 |
3.2.3 气相沉积法(Vapor deposition) | 第27-28页 |
3.3 结果与讨论 | 第28-39页 |
3.3.1 新鲜催化剂的表征 | 第28-30页 |
3.3.2 不同中毒方法对催化剂活性的影响 | 第30-32页 |
3.3.3 催化剂孔结构 | 第32页 |
3.3.4 催化剂表面钒的化学形态 | 第32-33页 |
3.3.5 催化剂表面钛的化学形态 | 第33-34页 |
3.3.6 催化剂的表面酸性 | 第34-37页 |
3.3.7 催化剂的表面氧化性 | 第37-39页 |
3.4 本章小结 | 第39-42页 |
第四章 钒钛催化剂钾中毒的分子模拟研究 | 第42-50页 |
4.1 引言 | 第42页 |
4.2 计算方法及模型构建 | 第42-44页 |
4.2.1 计算方法 | 第42页 |
4.2.2 TiO_2表面模型构建 | 第42-43页 |
4.2.3 V_2O_5/TiO_2(001)表面模型构建 | 第43-44页 |
4.3 结果与讨论 | 第44-48页 |
4.3.1 KCl在V_2O_5/TiO_2(001)表面吸附 | 第44-45页 |
4.3.2 K~+对V_2O_5/TiO_2(001)表面的影响 | 第45-47页 |
4.3.3 K~+对NH_3在V_2O_5/TiO_2(001)表面吸附的影响 | 第47-48页 |
4.4 本章小结 | 第48-50页 |
第五章 氨在铜铝催化剂表面的吸附 | 第50-60页 |
5.1 引言 | 第50页 |
5.2 计算方法及模型构建 | 第50-53页 |
5.2.1 计算方法 | 第50-51页 |
5.2.2 CuO(110)表面模型构建 | 第51-52页 |
5.2.3 CuSO_4(010)表面模型构建 | 第52-53页 |
5.3 结果与讨论 | 第53-59页 |
5.3.1 NH_3在CuO(110)铜终端表面的吸附 | 第53-54页 |
5.3.2 NH_3在CuO(110)氧终端表面的吸附 | 第54-56页 |
5.3.3 NH_3与SO_2在CuO(110)表面的竞争吸附 | 第56-58页 |
5.3.4 NH_3在CuSO_4表面的吸附 | 第58-59页 |
5.4 本章小结 | 第59-60页 |
第六章 结论与展望 | 第60-62页 |
6.1 论文总结 | 第60-61页 |
6.2 本论文创新点 | 第61页 |
6.3 下一步工作建议与展望 | 第61-62页 |
参考文献 | 第62-70页 |
致谢 | 第70-72页 |
研究成果及发表的学术论文 | 第72-74页 |
作者和导师介绍 | 第74-76页 |
附件 | 第76-77页 |