| 致谢 | 第7-8页 |
| 摘要 | 第8-9页 |
| ABSTRACT | 第9-10页 |
| 第一章 绪论 | 第18-29页 |
| 1.1 自旋电子学概述 | 第18-19页 |
| 1.2 自旋电子材料 | 第19页 |
| 1.3 稀磁半导体 | 第19-22页 |
| 1.3.1 稀磁半导体的物理性质 | 第20页 |
| 1.3.2 稀磁半导体的磁性机理 | 第20-22页 |
| 1.4 自旋零禁带半导体 | 第22-23页 |
| 1.5 PbPdO_2基SGS材料的研究 | 第23-27页 |
| 1.6 选题的意义 | 第27-28页 |
| 1.7 本论文的研究目的和研究内容 | 第28-29页 |
| 1.7.1 研究目的 | 第28页 |
| 1.7.2 研究内容 | 第28-29页 |
| 第二章 样品的制备与表征方法 | 第29-40页 |
| 2.1 PbPdO_2基材料的制备方法 | 第29-32页 |
| 2.1.1 固相烧结法 | 第29页 |
| 2.1.2 脉冲激光沉积法 | 第29-30页 |
| 2.1.3 溶胶-凝胶法 | 第30-32页 |
| 2.2 PbPdO_2薄膜材料的制备 | 第32-34页 |
| 2.2.1 制备方法选择 | 第32页 |
| 2.2.2 基板选择 | 第32页 |
| 2.2.3 络合剂的选择 | 第32-33页 |
| 2.2.4 溶剂的选择 | 第33页 |
| 2.2.5 实验原料与实验设备 | 第33-34页 |
| 2.2.6 薄膜制备 | 第34页 |
| 2.3 本文的实验测试手段和原理 | 第34-39页 |
| 2.3.1 测试仪器及型号 | 第34-35页 |
| 2.3.2 热学性能表征 | 第35页 |
| 2.3.3 物相与形貌结构表征 | 第35-37页 |
| 2.3.4 元素含量与价态表征 | 第37-38页 |
| 2.3.5 磁性表征 | 第38-39页 |
| 2.4 本章小结 | 第39-40页 |
| 第三章 煅烧温度对Ni掺杂PbPdO_2薄膜磁学特性的影响 | 第40-53页 |
| 3.1 溶胶的配制 | 第40-41页 |
| 3.2 溶胶配制流程图 | 第41页 |
| 3.3 胶体热分析 | 第41-42页 |
| 3.4 薄膜的制备 | 第42-43页 |
| 3.5 实验参数 | 第43页 |
| 3.6 实验结果分析与讨论 | 第43-51页 |
| 3.6.1 物相结构分析 | 第43-45页 |
| 3.6.2 微观结构分析 | 第45-46页 |
| 3.6.3 元素价态分析 | 第46-47页 |
| 3.6.4 磁性分析 | 第47-50页 |
| 3.6.5 磁性机理分析 | 第50-51页 |
| 3.7 本章小结 | 第51-53页 |
| 第四章 Ni掺杂浓度对PbPdO_2薄膜磁学特性的影响 | 第53-62页 |
| 4.1 溶胶配制 | 第53页 |
| 4.2 薄膜制备 | 第53-54页 |
| 4.3 实验参数 | 第54页 |
| 4.4 实验结果分析与讨论 | 第54-61页 |
| 4.4.1 微观结构分析 | 第54-55页 |
| 4.4.2 物相结构分析 | 第55-56页 |
| 4.4.3 元素价态分析 | 第56-57页 |
| 4.4.4 磁性分析 | 第57-61页 |
| 4.4.5 磁性机理分析 | 第61页 |
| 4.5 本章小结 | 第61-62页 |
| 第五章 薄膜厚度对Ni掺杂PbPdO_2薄膜磁学特性的影响 | 第62-70页 |
| 5.1 溶胶配制 | 第62页 |
| 5.2 薄膜的制备 | 第62页 |
| 5.3 实验参数 | 第62-63页 |
| 5.4 实验结果分析与讨论 | 第63-68页 |
| 5.4.1 微观结构分析 | 第63-64页 |
| 5.4.2 物相结构分析 | 第64页 |
| 5.4.3 元素价态分析 | 第64-66页 |
| 5.4.4 磁性分析 | 第66-68页 |
| 5.4.5 磁性机理分析 | 第68页 |
| 5.5 本章小结 | 第68-70页 |
| 第六章 总结与展望 | 第70-72页 |
| 6.1 全文总结 | 第70-71页 |
| 6.2 创新点 | 第71页 |
| 6.3 展望 | 第71-72页 |
| 参考文献 | 第72-77页 |
| 攻读硕士学位期间的学术活动和科研成果 | 第77-79页 |
