基于电雾化技术的导电颗粒布控工艺研究与开发
| 摘要 | 第5-7页 |
| ABSTRACT | 第7-9页 |
| 符号说明 | 第16-17页 |
| 希腊字母 | 第17-18页 |
| 第一章 绪论 | 第18-30页 |
| 1.1 课题来源 | 第18页 |
| 1.2 平板显示COG封装与导电颗粒 | 第18-22页 |
| 1.2.1 平板显示器件介绍 | 第18-19页 |
| 1.2.2 COG封装技术 | 第19-20页 |
| 1.2.3 导电颗粒分布缺陷与ACF材料的改进 | 第20-22页 |
| 1.3 微球颗粒及其操控技术 | 第22-25页 |
| 1.3.1 微球颗粒材料简介 | 第22页 |
| 1.3.2 微球操控技术介绍 | 第22-25页 |
| 1.3.3 现有操控技术的不足 | 第25页 |
| 1.4 电流体雾化技术的应用和发展 | 第25-28页 |
| 1.4.1 电雾化技术及应用 | 第25-27页 |
| 1.4.2 电雾化研究概况 | 第27-28页 |
| 1.5 本文研究意义和内容 | 第28-30页 |
| 第二章 电雾化和电流体力学理论分析 | 第30-44页 |
| 2.1 电介质流体内的欧姆模型 | 第30-32页 |
| 2.2 Maxwell应力与泰勒锥 | 第32-34页 |
| 2.3 射流形成与尺度规律 | 第34-38页 |
| 2.4 碎裂机理与喷雾场控制方程 | 第38-42页 |
| 2.5 本章小结 | 第42-44页 |
| 第三章 电雾化装置与实验研究 | 第44-68页 |
| 3.1 实验设备和材料 | 第44-48页 |
| 3.1.1 实验平台概述 | 第44-46页 |
| 3.1.2 高速观测系统 | 第46-47页 |
| 3.1.3 实验材料 | 第47-48页 |
| 3.2 喷雾模式与雾场形态 | 第48-60页 |
| 3.2.1 电雾化模式的划分 | 第48-49页 |
| 3.2.2 电雾化模式观测 | 第49-54页 |
| 3.2.3 喷雾形态观测 | 第54-60页 |
| 3.3 边界条件与工艺参数 | 第60-67页 |
| 3.3.1 稳态锥模式触发电压与迟滞效应 | 第60-62页 |
| 3.3.2 稳态锥模式适用区间及对比 | 第62-65页 |
| 3.3.3 针头对触发电压的影响 | 第65-67页 |
| 3.4 本章小结 | 第67-68页 |
| 第四章 沉积颗粒观测及评估系统 | 第68-90页 |
| 4.1 图像处理及颗粒检测标定 | 第68-81页 |
| 4.1.1 图像增强及二值化 | 第69-74页 |
| 4.1.2 数学形态学处理 | 第74-76页 |
| 4.1.3 颗粒标定 | 第76-79页 |
| 4.1.4 基于颗粒的图像分隔 | 第79-81页 |
| 4.2 颗粒分布评估算法 | 第81-86页 |
| 4.2.1 颗粒密度分析 | 第81-84页 |
| 4.2.2 颗粒团聚度分析 | 第84-85页 |
| 4.2.3 颗粒分布均匀度分析 | 第85-86页 |
| 4.3 自动观测平台 | 第86-89页 |
| 4.4 本章小结 | 第89-90页 |
| 第五章 颗粒电雾化布控实验研究 | 第90-100页 |
| 5.1 颗粒布控原型装置 | 第90-91页 |
| 5.2 实验结果及分析 | 第91-99页 |
| 5.2.1 颗粒沉积整体形貌 | 第91-93页 |
| 5.2.2 工艺参数与颗粒微观状态 | 第93-96页 |
| 5.2.3 不均匀与不稳定沉积现象 | 第96-98页 |
| 5.2.4 平台运动辅助沉积 | 第98-99页 |
| 5.3 本章小结 | 第99-100页 |
| 第六章 总结与展望 | 第100-102页 |
| 6.1 研究工作总结 | 第100-101页 |
| 6.2 未来工作展望 | 第101-102页 |
| 参考文献 | 第102-108页 |
| 致谢 | 第108-109页 |
| 攻读学位期间的科研成果 | 第109页 |
