| 摘要 | 第4-5页 |
| Abstract | 第5-6页 |
| 第一章 绪论 | 第7-18页 |
| 1.1 引言 | 第7页 |
| 1.2 硅化物工艺的发展简要历史 | 第7-9页 |
| 1.3 SALICIDE工艺常用硅化物特性介绍 | 第9-11页 |
| 1.4 退火设备的介绍 | 第11-16页 |
| 1.4.1 快速热处理设备 | 第11-13页 |
| 1.4.2 激光退火设备 | 第13-16页 |
| 1.5 本文研究内容 | 第16-18页 |
| 第二章 Ni(Pt)Si薄膜的样品制备和测试表征方法 | 第18-33页 |
| 2.1 样品制备简介 | 第18-24页 |
| 2.1.1 制备样品标准工艺步骤 | 第18-20页 |
| 2.1.2 测试样品介绍 | 第20-22页 |
| 2.1.3 辅助性实验 | 第22-24页 |
| 2.3 样品测试表征方法 | 第24-33页 |
| 2.3.1 薄层电阻和四探针 | 第24-25页 |
| 2.3.2 微区拉曼散射光谱 | 第25-26页 |
| 2.3.3 X射线衍射 | 第26-28页 |
| 2.3.4 X射线光电子能谱分析 | 第28-29页 |
| 2.3.5 原子力显微镜 | 第29-30页 |
| 2.3.6 透射电子显微镜 | 第30-31页 |
| 2.3.7 二次离子质谱 | 第31页 |
| 2.3.8 傅氏转换红外线光谱分析仪 | 第31-33页 |
| 第三章 不同厚度Ni(Pt)膜在多种Si衬底上激光退火硅化反应特性研究 | 第33-47页 |
| 3.1 引言 | 第33-36页 |
| 3.2 Ni厚度变化在多种退火条件下成膜特性研究 | 第36-41页 |
| 3.3 衬底掺杂杂质和衬底晶体形态退火成膜研究 | 第41-46页 |
| 3.4 本章小结 | 第46-47页 |
| 第四章 超薄Ni(Pt)激光退火成膜特性研究 | 第47-56页 |
| 4.1 引言 | 第47页 |
| 4.2 超薄Ni(Pt)的激光退火成膜特性研究 | 第47-52页 |
| 4.3 有源区/STI界面处过硅化分析研究 | 第52-54页 |
| 4.4 本章小结 | 第54-56页 |
| 第五章 LSA成膜的热稳定性研究 | 第56-66页 |
| 5.1 引言 | 第56页 |
| 5.2 适宜的退火条件 | 第56-60页 |
| 5.3 激光退火成膜热稳定性研究 | 第60-65页 |
| 5.4 本章小结 | 第65-66页 |
| 第六章 结论与展望 | 第66-68页 |
| 参考文献 | 第68-75页 |
| 致谢 | 第75-76页 |
| 硕士期间发表论文和专利 | 第76-77页 |