JDSU-10G光强度调制器驱动技术研究
摘要 | 第4-5页 |
ABSTRACT | 第5页 |
第1章 绪论 | 第8-12页 |
1.1 本论文研究的目的和意义 | 第8-9页 |
1.2 国内外电光调制器发展动态 | 第9-10页 |
1.2.1 国外研究现状 | 第9-10页 |
1.2.2 国内研究现状 | 第10页 |
1.3 本论文各章节的安排 | 第10-12页 |
第2章 电光调制理论研究 | 第12-23页 |
2.1 电光效应 | 第12-14页 |
2.1.1 普克尔效应和克尔效应 | 第12-13页 |
2.1.2 晶体中的电光效应 | 第13-14页 |
2.2 电光调制器 | 第14-18页 |
2.2.1 电光调制器调制方式 | 第14-18页 |
2.2.2 电光调制器的结构 | 第18页 |
2.3 铌酸锂电光强度调制器 | 第18-22页 |
2.3.1 马赫-增德尔电光强度调制器 | 第19-20页 |
2.3.2 定向耦合电光强度调制器 | 第20-21页 |
2.3.3 本文所选用的电光强度调制器 | 第21-22页 |
2.4 本章小结 | 第22-23页 |
第3章 电光强度调制器驱动源的研究 | 第23-39页 |
3.1 电光强度调制器驱动源的方案设计 | 第23-24页 |
3.2 射频功率放大器的研究 | 第24-29页 |
3.2.1 射频功率放大器的主要参数 | 第24-25页 |
3.2.2 S参量分析 | 第25-26页 |
3.2.3 稳定性分析 | 第26页 |
3.2.4 阻抗匹配网络 | 第26-29页 |
3.3 射频功率放大电路的设计 | 第29-38页 |
3.3.1 方案设计 | 第29-30页 |
3.3.2 可控增益放大电路 | 第30-32页 |
3.3.3 功率放大电路 | 第32-38页 |
3.3.4 电源电路设计 | 第38页 |
3.4 本章小结 | 第38-39页 |
第4章 电光强度调制器的自动偏压控制研究 | 第39-51页 |
4.1 电光强度调制器偏置点的研究 | 第39-40页 |
4.2 电光强度调制器自动偏置控制系统 | 第40-42页 |
4.2.1 偏置点控制原理 | 第40-41页 |
4.2.2 自动偏置控制方案设计 | 第41-42页 |
4.3 电路系统的设计 | 第42-50页 |
4.3.1 光电转换模块 | 第42-44页 |
4.3.2 交变电压平均 | 第44-46页 |
4.3.3 比较放大模块 | 第46-47页 |
4.3.4 偏压控制模块 | 第47-49页 |
4.3.5 直流偏压产生模块 | 第49-50页 |
4.4 本章小结 | 第50-51页 |
第5章 系统实验与分析 | 第51-55页 |
5.1 实验平台 | 第51-52页 |
5.2 实验步骤及分析结果 | 第52-54页 |
5.3 本章小结 | 第54-55页 |
总结和展望 | 第55-56页 |
参考文献 | 第56-58页 |
作者简介及科研成果 | 第58-59页 |
致谢 | 第59页 |