摘要 | 第4-6页 |
Abstract | 第6-8页 |
第1章 绪论 | 第16-38页 |
1.1 论文研究背景 | 第16页 |
1.2 半导体光催化技术 | 第16-21页 |
1.2.1 光催化原理 | 第16-17页 |
1.2.2 半导体光催化的影响因素 | 第17-19页 |
1.2.3 半导体光催化材料 | 第19-21页 |
1.3 m-BiVO_4的合成 | 第21-23页 |
1.4 增强m-BiVO_4光催化性能的主要策略 | 第23-35页 |
1.4.1 形貌调控 | 第23-25页 |
1.4.2 活性晶面暴露 | 第25-26页 |
1.4.3 掺杂 | 第26-30页 |
1.4.4 构筑异质结构 | 第30-33页 |
1.4.5 表面修饰 | 第33-35页 |
1.5 本文选题的意义及主要研究内容 | 第35-38页 |
第2章 实验材料及表征方法 | 第38-46页 |
2.1 实验试剂及仪器 | 第38-39页 |
2.1.1 实验试剂 | 第38页 |
2.1.2 实验仪器 | 第38-39页 |
2.2 材料合成方法 | 第39-40页 |
2.3 样品的表征和测试 | 第40-46页 |
2.3.1 X-射线衍射 | 第40页 |
2.3.2 扫描电子显微镜 | 第40-41页 |
2.3.3 透射电子显微镜 | 第41页 |
2.3.4 X-射线荧光光谱 | 第41页 |
2.3.5 紫外可见漫反射光谱 | 第41-42页 |
2.3.6 傅里叶变换红外光谱 | 第42页 |
2.3.7 氮气吸附-脱附 | 第42-43页 |
2.3.8 光催化降解性能测试 | 第43-46页 |
第3章 棒状m-BiVO_4的可控合成及光催化性能研究 | 第46-72页 |
3.1 引言 | 第46-47页 |
3.2 棒状m-BiVO_4的制备与表征 | 第47-50页 |
3.3 较强酸性条件下溶剂对BiVO_4产物的影响 | 第50-56页 |
3.3.1 较强酸性下溶剂对产物物相结构的影响 | 第50-52页 |
3.3.2 较强酸性下溶剂对产物形貌的影响 | 第52-54页 |
3.3.3 较强酸性下溶剂对产物UV-vis和红外光谱的影响 | 第54-56页 |
3.4 较高浓度丙三醇水溶液中p H值对BiVO_4产物的影响 | 第56-62页 |
3.4.1 较高浓度溶剂中pH值对产物物相结构的影响 | 第57-58页 |
3.4.2 较高浓度溶剂中pH值对产物形貌的影响 | 第58-60页 |
3.4.3 较高浓度溶剂中pH值对产物UV-vis和红外光谱的影响 | 第60-62页 |
3.5 形成机制探讨 | 第62-65页 |
3.6 光催化活性测试 | 第65-70页 |
3.6.1 溶剂对BiVO_4样品光催化活性的影响 | 第65-68页 |
3.6.2 p H值对BiVO_4样品光催化活性的影响 | 第68-70页 |
3.7 本章小结 | 第70-72页 |
第4章 高度暴露{010}晶面片状m-BiVO_4的可控合成及光催化性能研究 | 第72-110页 |
4.1 引言 | 第72-73页 |
4.2 高度暴露{010}晶面片状m-BiVO_4的制备 | 第73页 |
4.3 弱酸性条件下溶剂对BiVO_4产物的影响 | 第73-79页 |
4.3.1 弱酸性下溶剂对产物物相结构的影响 | 第73-75页 |
4.3.2 弱酸性下溶剂对产物形貌的影响 | 第75-77页 |
4.3.3 弱酸性下溶剂对产物UV-vis和红外光谱的影响 | 第77-79页 |
4.4 低浓度丙三醇水溶液中p H值对BiVO_4产物的影响 | 第79-84页 |
4.4.1 低浓度溶剂中p H值对产物物相结构的影响 | 第80-81页 |
4.4.2 低浓度溶剂中p H值对产物形貌的影响 | 第81-83页 |
4.4.3 低浓度溶剂中p H值对产物Uv-vis和红外光谱的影响 | 第83-84页 |
4.5 反应时间对BiVO_4产物的影响 | 第84-90页 |
4.5.1 不同反应时间下产物的物相结构分析 | 第84-86页 |
4.5.2 不同反应时间下产物的形貌分析 | 第86-88页 |
4.5.3 不同反应时间下产物的Uv-vis和红外光谱分析 | 第88-90页 |
4.6 {010}晶面的确定 | 第90-93页 |
4.7 高度暴露{010}晶面片状m-BiVO_4的生长机制 | 第93-95页 |
4.8 光催化活性测试 | 第95-108页 |
4.8.1 溶剂对样品光催化活性的影响 | 第95-98页 |
4.8.2 p H值对样品光催化活性的影响 | 第98-101页 |
4.8.3 溶剂热反应时间对样品光催化活性的影响 | 第101-104页 |
4.8.4 高度暴露{010}晶面片状m-BiVO_4的循环使用稳定性 | 第104-105页 |
4.8.5 高度暴露{010}晶面片状m-BiVO_4光催化性能增强机制 | 第105-108页 |
4.9 本章小结 | 第108-110页 |
第5章 P掺杂暴露{010}晶面m-BiVO_4的水热合成及光催化性能研究 | 第110-124页 |
5.1 引言 | 第110-111页 |
5.2 P掺杂暴露{010}晶面m-BiVO_4的合成 | 第111页 |
5.3 p H值对P掺杂BiVO_4的影响 | 第111-114页 |
5.4 不同掺杂量对P掺杂BiVO_4产物的影响 | 第114-123页 |
5.4.1 不同掺杂量制备P掺杂BiVO_4的物相结构分析 | 第114-116页 |
5.4.2 不同掺杂量制备P掺杂BiVO_4的元素组成分析 | 第116-117页 |
5.4.3 不同掺杂量制备P掺杂BiVO_4的形貌和微观结构分析 | 第117-119页 |
5.4.4 不同掺杂量制备P掺杂BiVO_4的Uv-vis分析 | 第119-120页 |
5.4.5 不同掺杂量制备P掺杂BiVO_4的光催化活性测试 | 第120-123页 |
5.5 本章小结 | 第123-124页 |
结论 | 第124-126页 |
论文创新点 | 第126页 |
展望 | 第126-127页 |
参考文献 | 第127-145页 |
攻读博士学位期间发表的论文及其它成果 | 第145-147页 |
致谢 | 第147-148页 |
个人简历 | 第148页 |