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单斜相钒酸铋的形貌和晶面控制合成及其光催化性能研究

摘要第4-6页
Abstract第6-8页
第1章 绪论第16-38页
    1.1 论文研究背景第16页
    1.2 半导体光催化技术第16-21页
        1.2.1 光催化原理第16-17页
        1.2.2 半导体光催化的影响因素第17-19页
        1.2.3 半导体光催化材料第19-21页
    1.3 m-BiVO_4的合成第21-23页
    1.4 增强m-BiVO_4光催化性能的主要策略第23-35页
        1.4.1 形貌调控第23-25页
        1.4.2 活性晶面暴露第25-26页
        1.4.3 掺杂第26-30页
        1.4.4 构筑异质结构第30-33页
        1.4.5 表面修饰第33-35页
    1.5 本文选题的意义及主要研究内容第35-38页
第2章 实验材料及表征方法第38-46页
    2.1 实验试剂及仪器第38-39页
        2.1.1 实验试剂第38页
        2.1.2 实验仪器第38-39页
    2.2 材料合成方法第39-40页
    2.3 样品的表征和测试第40-46页
        2.3.1 X-射线衍射第40页
        2.3.2 扫描电子显微镜第40-41页
        2.3.3 透射电子显微镜第41页
        2.3.4 X-射线荧光光谱第41页
        2.3.5 紫外可见漫反射光谱第41-42页
        2.3.6 傅里叶变换红外光谱第42页
        2.3.7 氮气吸附-脱附第42-43页
        2.3.8 光催化降解性能测试第43-46页
第3章 棒状m-BiVO_4的可控合成及光催化性能研究第46-72页
    3.1 引言第46-47页
    3.2 棒状m-BiVO_4的制备与表征第47-50页
    3.3 较强酸性条件下溶剂对BiVO_4产物的影响第50-56页
        3.3.1 较强酸性下溶剂对产物物相结构的影响第50-52页
        3.3.2 较强酸性下溶剂对产物形貌的影响第52-54页
        3.3.3 较强酸性下溶剂对产物UV-vis和红外光谱的影响第54-56页
    3.4 较高浓度丙三醇水溶液中p H值对BiVO_4产物的影响第56-62页
        3.4.1 较高浓度溶剂中pH值对产物物相结构的影响第57-58页
        3.4.2 较高浓度溶剂中pH值对产物形貌的影响第58-60页
        3.4.3 较高浓度溶剂中pH值对产物UV-vis和红外光谱的影响第60-62页
    3.5 形成机制探讨第62-65页
    3.6 光催化活性测试第65-70页
        3.6.1 溶剂对BiVO_4样品光催化活性的影响第65-68页
        3.6.2 p H值对BiVO_4样品光催化活性的影响第68-70页
    3.7 本章小结第70-72页
第4章 高度暴露{010}晶面片状m-BiVO_4的可控合成及光催化性能研究第72-110页
    4.1 引言第72-73页
    4.2 高度暴露{010}晶面片状m-BiVO_4的制备第73页
    4.3 弱酸性条件下溶剂对BiVO_4产物的影响第73-79页
        4.3.1 弱酸性下溶剂对产物物相结构的影响第73-75页
        4.3.2 弱酸性下溶剂对产物形貌的影响第75-77页
        4.3.3 弱酸性下溶剂对产物UV-vis和红外光谱的影响第77-79页
    4.4 低浓度丙三醇水溶液中p H值对BiVO_4产物的影响第79-84页
        4.4.1 低浓度溶剂中p H值对产物物相结构的影响第80-81页
        4.4.2 低浓度溶剂中p H值对产物形貌的影响第81-83页
        4.4.3 低浓度溶剂中p H值对产物Uv-vis和红外光谱的影响第83-84页
    4.5 反应时间对BiVO_4产物的影响第84-90页
        4.5.1 不同反应时间下产物的物相结构分析第84-86页
        4.5.2 不同反应时间下产物的形貌分析第86-88页
        4.5.3 不同反应时间下产物的Uv-vis和红外光谱分析第88-90页
    4.6 {010}晶面的确定第90-93页
    4.7 高度暴露{010}晶面片状m-BiVO_4的生长机制第93-95页
    4.8 光催化活性测试第95-108页
        4.8.1 溶剂对样品光催化活性的影响第95-98页
        4.8.2 p H值对样品光催化活性的影响第98-101页
        4.8.3 溶剂热反应时间对样品光催化活性的影响第101-104页
        4.8.4 高度暴露{010}晶面片状m-BiVO_4的循环使用稳定性第104-105页
        4.8.5 高度暴露{010}晶面片状m-BiVO_4光催化性能增强机制第105-108页
    4.9 本章小结第108-110页
第5章 P掺杂暴露{010}晶面m-BiVO_4的水热合成及光催化性能研究第110-124页
    5.1 引言第110-111页
    5.2 P掺杂暴露{010}晶面m-BiVO_4的合成第111页
    5.3 p H值对P掺杂BiVO_4的影响第111-114页
    5.4 不同掺杂量对P掺杂BiVO_4产物的影响第114-123页
        5.4.1 不同掺杂量制备P掺杂BiVO_4的物相结构分析第114-116页
        5.4.2 不同掺杂量制备P掺杂BiVO_4的元素组成分析第116-117页
        5.4.3 不同掺杂量制备P掺杂BiVO_4的形貌和微观结构分析第117-119页
        5.4.4 不同掺杂量制备P掺杂BiVO_4的Uv-vis分析第119-120页
        5.4.5 不同掺杂量制备P掺杂BiVO_4的光催化活性测试第120-123页
    5.5 本章小结第123-124页
结论第124-126页
论文创新点第126页
展望第126-127页
参考文献第127-145页
攻读博士学位期间发表的论文及其它成果第145-147页
致谢第147-148页
个人简历第148页

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