| 摘要 | 第8-9页 |
| Abstract | 第9-10页 |
| 第1章 绪论 | 第11-19页 |
| 1.1 镁及镁合金的应用及特点 | 第11页 |
| 1.2 微弧氧化技术 | 第11-12页 |
| 1.3 微弧氧化电解液研究现状 | 第12-18页 |
| 1.3.1 硅酸盐体系 | 第12-14页 |
| 1.3.2 铝酸盐体系 | 第14-16页 |
| 1.3.3 磷酸盐体系 | 第16页 |
| 1.3.4 复合电解液体系 | 第16-17页 |
| 1.3.5 添加剂 | 第17-18页 |
| 1.3.5.1 有机添加剂 | 第17页 |
| 1.3.5.2 无机添加剂 | 第17-18页 |
| 1.3.5.3 颗粒添加剂 | 第18页 |
| 1.3.5.4 强氧化性或缓蚀性添加剂 | 第18页 |
| 1.4 研究内容与主要目的 | 第18-19页 |
| 第2章 实验方法 | 第19-22页 |
| 2.1 实验材料 | 第19页 |
| 2.2 实验方法 | 第19-21页 |
| 2.3 检测方法 | 第21-22页 |
| 2.3.1 微弧氧化膜层厚度及微观形貌 | 第21页 |
| 2.3.2 微弧氧化膜层耐蚀性 | 第21-22页 |
| 第3章 AZ91D镁合金膜层的回归分析及电解液优化 | 第22-44页 |
| 3.1 引言 | 第22页 |
| 3.2 结果与分析 | 第22-43页 |
| 3.2.1 AZ91D膜层回归模型及试验结果 | 第22-23页 |
| 3.2.2 AZ91D镁合金微弧氧化膜层厚度分析 | 第23-28页 |
| 3.2.2.1 三元二次回归方程模型分析 | 第23-25页 |
| 3.2.2.2 四元一次回归方程模型分析 | 第25-27页 |
| 3.2.2.3 直观分析 | 第27-28页 |
| 3.2.2.4 综合分析 | 第28页 |
| 3.2.3 AZ91D膜层点滴完全变白时间分析 | 第28-35页 |
| 3.2.3.1 三元二次回归方程模型分析 | 第28-30页 |
| 3.2.3.2 四元一次回归方程模型分析 | 第30-32页 |
| 3.2.3.3 直观分析 | 第32-34页 |
| 3.2.3.4 综合分析 | 第34-35页 |
| 3.2.4 AZ91D膜层腐蚀电流密度分析 | 第35-43页 |
| 3.2.4.1 三元二次回归方程模型分析 | 第35-37页 |
| 3.2.4.2 四元一次回归方程模型分析 | 第37-39页 |
| 3.2.4.3 直观分析 | 第39-42页 |
| 3.2.4.4 综合分析 | 第42-43页 |
| 3.3 本章小结 | 第43-44页 |
| 第4章 纯镁膜层的回归分析及电解液优化 | 第44-65页 |
| 4.1 引言 | 第44页 |
| 4.2 结果与分析 | 第44-64页 |
| 4.2.1 纯镁膜层回归模型及试验结果 | 第44-45页 |
| 4.2.2 纯镁微弧氧化膜层厚度分析 | 第45-50页 |
| 4.2.2.1 三元二次回归方程模型分析 | 第45-47页 |
| 4.2.2.2 四元一次回归方程模型分析 | 第47-49页 |
| 4.2.2.3 直观分析 | 第49-50页 |
| 4.2.2.4 综合分析 | 第50页 |
| 4.2.3 纯镁膜层点滴完全变白时间分析 | 第50-57页 |
| 4.2.3.1 三元二次回归方程模型分析 | 第50-52页 |
| 4.2.3.2 四元一次回归方程模型分析 | 第52-54页 |
| 4.2.3.3 直观分析 | 第54-57页 |
| 4.2.3.4 综合分析 | 第57页 |
| 4.2.4 纯镁膜层腐蚀电流密度分析 | 第57-64页 |
| 4.2.4.1 三元二次回归方程模型分析 | 第57-59页 |
| 4.2.4.2 四元一次回归方程模型分析 | 第59-61页 |
| 4.2.4.3 直观分析 | 第61-63页 |
| 4.2.4.4 综合分析 | 第63-64页 |
| 4.3 本章小结 | 第64-65页 |
| 本文结论 | 第65-66页 |
| 本文创新点 | 第66-67页 |
| 参考文献 | 第67-71页 |
| 致谢 | 第71-72页 |
| 附录A 攻读学位期间所发表的学术论文 | 第72页 |