| 致谢 | 第6-7页 |
| 摘要 | 第7-8页 |
| abstract | 第8页 |
| 符号清单 | 第11-14页 |
| 第一章 绪论 | 第14-24页 |
| 1.1 铜与甘氨酸相互作用研究 | 第14-18页 |
| 1.1.1 铜-氨基酸体系电化学行为的研究 | 第14页 |
| 1.1.2 甘氨酸在金属表面氧化和吸附行为的研究 | 第14-15页 |
| 1.1.3 铜氨基酸配合物性质的电化学研究 | 第15页 |
| 1.1.4 甘氨酸在金属电沉积和电镀方面的应用研究 | 第15-16页 |
| 1.1.5 金属-甘氨酸体系在合成领域的应用研究 | 第16页 |
| 1.1.6 甘氨酸在铜的化学机械抛光中的机理研究 | 第16-17页 |
| 1.1.7 铜-甘氨酸体系在腐蚀领域的应用研究 | 第17-18页 |
| 1.2 甘氨酸简介及其铜配合物结构研究 | 第18-20页 |
| 1.2.1 甘氨酸的结构和理化性质 | 第18-19页 |
| 1.2.2 甘氨酸的生理作用 | 第19页 |
| 1.2.3 甘氨酸与铜配合物的结构研究 | 第19-20页 |
| 1.3 紫外可见薄层光谱电化学方法 | 第20-22页 |
| 1.3.1 光谱电化学法简介 | 第20-21页 |
| 1.3.2 光谱电化学池 | 第21页 |
| 1.3.3 紫外可见薄层光谱电化学方法 | 第21-22页 |
| 1.3.4 循环伏吸法 | 第22页 |
| 1.4 本课题的研究意义及实验方案 | 第22-24页 |
| 第二章 铜离子甘氨酸溶液的电化学行为 | 第24-36页 |
| 2.1 引言 | 第24页 |
| 2.2 实验部分 | 第24-27页 |
| 2.2.1 实验试剂与仪器 | 第24页 |
| 2.2.2 溶液的配制 | 第24-25页 |
| 2.2.3 碳糊电极的制备及处理 | 第25-26页 |
| 2.2.4 实验方法 | 第26-27页 |
| 2.3 结果与讨论 | 第27-35页 |
| 2.3.1 甘氨酸对铜离子伏安行为的影响 | 第27-28页 |
| 2.3.2 甘氨酸浓度对沉积铜氧化的影响 | 第28-29页 |
| 2.3.3 扫描电势范围对沉积铜氧化的影响 | 第29页 |
| 2.3.4 富集时间对沉积铜氧化的影响 | 第29-30页 |
| 2.3.5 检测铜离子的差分脉冲伏安曲线 | 第30页 |
| 2.3.6 其它离子对电化学过程的影响 | 第30-31页 |
| 2.3.7 电极上沉积产物的表征 | 第31-35页 |
| 2.4 本章小结 | 第35-36页 |
| 第三章 甘氨酸溶液中纳米铜箔的光谱电化学研究 | 第36-54页 |
| 3.1 引言 | 第36页 |
| 3.2 实验部分 | 第36-39页 |
| 3.2.1 实验试剂与仪器 | 第36-37页 |
| 3.2.2 溶液的配制 | 第37页 |
| 3.2.3 实验装置图 | 第37页 |
| 3.2.4 薄层池的制作 | 第37-39页 |
| 3.2.5 实验方法 | 第39页 |
| 3.3 结果与讨论 | 第39-52页 |
| 3.3.1 纳米铜箔的薄层光谱电化学UV-vis测试 | 第39-44页 |
| 3.3.2 CVA法研究纳米铜箔在不同甘氨酸浓度下的电化学行为 | 第44-47页 |
| 3.3.3 逆向扫描的CVA曲线 | 第47页 |
| 3.3.4 延伸到更正电势的的循环伏吸测试 | 第47-50页 |
| 3.3.5 更高pH条件下的循环伏吸测试 | 第50-52页 |
| 3.4 本章小结 | 第52-54页 |
| 第四章 强碱溶液中铜甘氨酸溶液的电化学研究 | 第54-62页 |
| 4.1 引言 | 第54页 |
| 4.2 实验部分 | 第54-55页 |
| 4.2.1 实验试剂与仪器 | 第54-55页 |
| 4.2.2 溶液的配制 | 第55页 |
| 4.2.3 工作电极的制备及实验方法 | 第55页 |
| 4.3 结果与讨论 | 第55-61页 |
| 4.3.1 强碱溶液中甘氨酸对铜离子伏安行为的影响 | 第55-56页 |
| 4.3.2 强碱溶液中起始电势对纳米氧化铜生成的影响 | 第56-57页 |
| 4.3.3 修饰电极制备条件的优化 | 第57-60页 |
| 4.3.4 sCPE与CuO/sCPE催化葡萄糖氧化的效果比较 | 第60-61页 |
| 4.4 本章小结 | 第61-62页 |
| 第五章 总结 | 第62-64页 |
| 参考文献 | 第64-71页 |
| 攻读硕士学位期间的学术活动及成果情况 | 第71-72页 |
