实验用微弧氧化智能系统研制
| 摘要 | 第3-5页 |
| ABSTRACT | 第5-7页 |
| 第一章 绪论 | 第11-21页 |
| 1.1 微弧氧化 | 第11-16页 |
| 1.1.1 微弧氧化技术 | 第11-12页 |
| 1.1.2 微弧氧化研究进展 | 第12-13页 |
| 1.1.3 微弧氧化影响因素 | 第13-14页 |
| 1.1.4 微弧氧化电源研究进展 | 第14-15页 |
| 1.1.5 过程控制方案在微弧氧化中的应用 | 第15-16页 |
| 1.2 人工智能与人工神经网络 | 第16-18页 |
| 1.3 本论文的提出及结构 | 第18-21页 |
| 1.3.1 论文的提出 | 第18-19页 |
| 1.3.2 论文结构 | 第19-21页 |
| 第二章 氧化系统的整体设计 | 第21-25页 |
| 2.1 微弧氧化系统整体结构 | 第21-22页 |
| 2.2 微弧氧化电源总体设计 | 第22-23页 |
| 2.3 小结 | 第23-25页 |
| 第三章 微弧氧化电源硬件设计 | 第25-41页 |
| 3.1 主电路设计 | 第25-31页 |
| 3.1.1 高频变压器的设计 | 第25-26页 |
| 3.1.2 整流及滤波保护电路设计 | 第26-27页 |
| 3.1.3 斩波器与逆变器设计 | 第27-28页 |
| 3.1.4 主电路的MATLAB仿真 | 第28-31页 |
| 3.2 数字信号处理芯片的选型 | 第31-32页 |
| 3.3 驱动电路的设计 | 第32-35页 |
| 3.4 采样电路的设计 | 第35-36页 |
| 3.5 存储电路设计 | 第36-37页 |
| 3.6 温度监测系统设计 | 第37-39页 |
| 3.6.1 PCF8591芯片 | 第37-38页 |
| 3.6.2 I~2C总线 | 第38-39页 |
| 3.7 小结 | 第39-41页 |
| 第四章 微弧氧化系统软件设计 | 第41-53页 |
| 4.1 DSP控制程序开发 | 第41-45页 |
| 4.1.1 DSP程序结构设计 | 第41-42页 |
| 4.1.2 PWM控制程序设计 | 第42-44页 |
| 4.1.3 PID控制算法的设计 | 第44-45页 |
| 4.2 A/D采样程序的设计 | 第45-47页 |
| 4.3 SPI通讯存储的实现 | 第47-48页 |
| 4.4 I~2C通讯的实现 | 第48页 |
| 4.5 人机交互的设计 | 第48-51页 |
| 4.6 小结 | 第51-53页 |
| 第五章 TC4钛合金微弧氧化膜层预测模型建立 | 第53-65页 |
| 5.1 微弧氧化电源样机 | 第53-54页 |
| 5.2 TC4钛合金微弧氧化实验 | 第54-55页 |
| 5.3 耐蚀性分析 | 第55-59页 |
| 5.4 预测模型的建立 | 第59-63页 |
| 5.4.1 样本数据处理 | 第60页 |
| 5.4.2 网络结构设计 | 第60-61页 |
| 5.4.3 MATLAB训练和仿真 | 第61-62页 |
| 5.4.4 神经网络预测结果分析 | 第62-63页 |
| 5.5 小结 | 第63-65页 |
| 第六章 结论与展望 | 第65-67页 |
| 6.1 结论 | 第65-66页 |
| 6.2 展望 | 第66-67页 |
| 参考文献 | 第67-73页 |
| 附录 | 第73-75页 |
| 致谢 | 第75-77页 |
| 硕士期间发表论文 | 第77页 |
