| 摘要 | 第3-5页 |
| Abstract | 第5-6页 |
| 第一章 绪论 | 第10-29页 |
| 1.1 引言 | 第10-11页 |
| 1.2 电解等离子体技术研究概况 | 第11-18页 |
| 1.2.1 电解等离子体技术简介 | 第11页 |
| 1.2.2 电解等离子体处理的基本过程 | 第11-12页 |
| 1.2.3 电解等离子体处理的机理 | 第12-14页 |
| 1.2.4 电解等离子体处理层的性能 | 第14-15页 |
| 1.2.5 等离子体处理技术的应用 | 第15-18页 |
| 1.3 阴极微弧电沉积技术 | 第18-28页 |
| 1.3.1 阴极微弧电沉积技术的产生与发展 | 第18-19页 |
| 1.3.2 阴极微弧电沉积制备氧化物陶瓷膜层的原理 | 第19-24页 |
| 1.3.3 阴极微弧电沉积制备陶瓷膜层的影响因素 | 第24-26页 |
| 1.3.4 阴极微弧电沉积技术的特点 | 第26-27页 |
| 1.3.5 阴极微弧电沉积技术在贫铀表面的应用及存在的问题 | 第27-28页 |
| 1.4 本研究的目的及主要内容 | 第28-29页 |
| 第二章 实验方案 | 第29-35页 |
| 2.1 实验材料及电沉积设备 | 第29-30页 |
| 2.2 实验方案设计 | 第30-32页 |
| 2.2.1 单因素实验 | 第30-31页 |
| 2.2.2 多因素正交实验 | 第31-32页 |
| 2.2.3 贫铀表面复合陶瓷膜层制备 | 第32页 |
| 2.3 陶瓷膜层结构和性能表征 | 第32-33页 |
| 2.3.1 膜层微观形貌观测 | 第32-33页 |
| 2.3.2 膜层厚度测定 | 第33页 |
| 2.3.3 膜层的物相和元素组成分析 | 第33页 |
| 2.4 贫铀表面陶瓷膜层耐蚀性能测试 | 第33-35页 |
| 2.4.1 电化学性能测试 | 第33页 |
| 2.4.2 大气环境稳定性测试 | 第33-34页 |
| 2.4.3 湿热腐蚀实验 | 第34-35页 |
| 第三章 电源电压及电解液浓度对阴极微弧电沉积陶瓷膜层结构与性能的影响 | 第35-48页 |
| 3.1 电源电压的影响 | 第35-42页 |
| 3.1.1 电压值对反应过程的影响 | 第35-37页 |
| 3.1.2 膜层的厚度 | 第37页 |
| 3.1.3 膜层的表面形貌 | 第37-39页 |
| 3.1.4 膜层的相组成 | 第39-40页 |
| 3.1.5 电化学腐蚀性能 | 第40-42页 |
| 3.2 电解液浓度的影响 | 第42-47页 |
| 3.2.1 电解液浓度对反应过程的影响 | 第42-44页 |
| 3.2.2 膜层的厚度 | 第44页 |
| 3.2.3 膜层的表面形貌 | 第44-45页 |
| 3.2.4 膜层的相组成 | 第45页 |
| 3.2.5 电化学腐蚀性能 | 第45-47页 |
| 3.3 小结 | 第47-48页 |
| 第四章 电源参数对阴极微弧电沉积陶瓷膜层结构与性能的影响 | 第48-61页 |
| 4.1 膜层的电阻 | 第48页 |
| 4.2 膜层的厚度 | 第48-50页 |
| 4.3 膜层表面粗糙度 | 第50-52页 |
| 4.5 膜层表面形貌 | 第52页 |
| 4.6 膜层的相组成 | 第52-54页 |
| 4.7 电化学腐蚀性能 | 第54-59页 |
| 4.7.1 开路电位 | 第54-56页 |
| 4.7.2 腐蚀电位和腐蚀电流密度 | 第56-59页 |
| 4.8 小结 | 第59-61页 |
| 第五章 贫铀表面复合陶瓷膜层的制备及其腐蚀性能 | 第61-71页 |
| 5.1 复合陶瓷膜层制备过程中的电流及电阻变化 | 第61-62页 |
| 5.2 膜层的厚度与表面粗糙度 | 第62-63页 |
| 5.3 膜层相组成 | 第63-65页 |
| 5.3.1 膜层元素组成及分布 | 第63-64页 |
| 5.3.2 膜层的相组成 | 第64-65页 |
| 5.4 腐蚀性能分析 | 第65-70页 |
| 5.4.1 电化学腐蚀性能 | 第65-66页 |
| 5.4.2 大气腐蚀性能 | 第66-68页 |
| 5.4.3 湿热腐蚀性能 | 第68-70页 |
| 5.5 小结 | 第70-71页 |
| 第六章 结论与展望 | 第71-73页 |
| 6.1 结论 | 第71-72页 |
| 6.2 展望 | 第72-73页 |
| 致谢 | 第73-74页 |
| 参考文献 | 第74-79页 |
| 附录 | 第79页 |
