静电陀螺仪长球形空心铍转子研磨技术
| 摘要 | 第1-5页 |
| Abstract | 第5-9页 |
| 引言 | 第9-10页 |
| 第1章 绪论 | 第10-26页 |
| ·国内外静电陀螺仪的发展状况 | 第10-13页 |
| ·国外静电陀螺仪的发展状况 | 第10-12页 |
| ·国内静电陀螺仪的发展状况 | 第12-13页 |
| ·国内外研磨技术的发展状况 | 第13-17页 |
| ·国外研磨技术的发展状况 | 第13-16页 |
| ·国内研磨技术的发展状况 | 第16-17页 |
| ·国内外研磨轨迹研究的发展状况 | 第17-20页 |
| ·国外研磨轨迹研究的发展状况 | 第17页 |
| ·国内研磨轨迹研究的发展状况 | 第17-20页 |
| ·国内外材料去除研究的发展状况 | 第20-23页 |
| ·国外材料去除研究的发展状况 | 第20-22页 |
| ·国内材料去除研究的发展状况 | 第22-23页 |
| ·静电陀螺仪的组成和工作原理 | 第23-24页 |
| ·空心铍转子材料性能 | 第24页 |
| ·四轴球体研磨机的结构及其成球条件 | 第24-26页 |
| 第2章 四轴球体研磨机研磨轨迹的研究 | 第26-37页 |
| ·研磨成球机理 | 第26页 |
| ·研磨成球条件 | 第26-27页 |
| ·四轴球体研磨机研磨轨迹分析 | 第27-33页 |
| ·坐标变换 | 第27-29页 |
| ·轨迹方程推导 | 第29-33页 |
| ·四轴球体研磨机研磨轨迹仿真 | 第33-35页 |
| ·四轴球体研磨机研磨轨迹均匀性分析 | 第35-36页 |
| ·小结 | 第36-37页 |
| 第3章 四轴球体研磨机材料去除量的研究 | 第37-51页 |
| ·材料去除理论基础 | 第37-38页 |
| ·研磨相对速度分析 | 第38-39页 |
| ·球面材料去除量仿真与均匀性研究 | 第39-44页 |
| ·球面材料去除量仿真 | 第39-44页 |
| ·球面材料去除量均匀性分析 | 第44页 |
| ·截面材料去除量仿真与均匀性研究 | 第44-50页 |
| ·截面材料去除量仿真 | 第44-49页 |
| ·截面材料去除量均匀性分析 | 第49-50页 |
| ·小结 | 第50-51页 |
| 第4章 球形空心铍转子有限元分析 | 第51-60页 |
| ·有限元概述 | 第51-52页 |
| ·有限元法的基本思想 | 第52页 |
| ·有限元法的特点 | 第52页 |
| ·有限元分析软件 Workbench 简介 | 第52-53页 |
| ·Workbench 的特点 | 第52-53页 |
| ·Workbench 软件分析流程简述 | 第53页 |
| ·空心球形转子有限元分析 | 第53-56页 |
| ·定义材料属性 | 第53页 |
| ·转子几何模型的建立 | 第53-55页 |
| ·网格划分 | 第55-56页 |
| ·约束与载荷 | 第56页 |
| ·分析结果 | 第56-57页 |
| ·新腔形设计 | 第57-59页 |
| ·小结 | 第59-60页 |
| 第5章 长球形铍转子的设计 | 第60-66页 |
| ·长球形转子解析法设计原理 | 第60-63页 |
| ·长球形铍转子的解析设计 | 第63-65页 |
| ·小结 | 第65-66页 |
| 结论 | 第66-67页 |
| 参考文献 | 第67-70页 |
| 致谢 | 第70-71页 |
| 导师简介 | 第71-72页 |
| 作者简介 | 第72-73页 |
| 学位论文数据集 | 第73页 |
