磁控溅射制备氮化物薄膜及其表征
| 摘要 | 第1-5页 |
| Abstract | 第5-9页 |
| 第1章 绪论 | 第9-19页 |
| ·课题的研究背景 | 第9-10页 |
| ·氮化锌概述 | 第10-12页 |
| ·氮化锌的基本性质 | 第10-11页 |
| ·氮化锌的国内外研究进展 | 第11-12页 |
| ·氮化铝概述 | 第12-16页 |
| ·氮化铝的基本性质 | 第12-14页 |
| ·氮化铝薄膜的制备方法 | 第14-15页 |
| ·氮化铝薄膜的应用领域 | 第15-16页 |
| ·本课题的研究意义和研究内容 | 第16-19页 |
| 第2章 氮化物薄膜的制备和表征方法 | 第19-23页 |
| ·氮化物薄膜的制备设备 | 第19-20页 |
| ·氮化物薄膜的表征方法 | 第20-23页 |
| ·X射线衍射仪（XRD） | 第20-21页 |
| ·原子力显微镜（AFM） | 第21页 |
| ·台阶仪 | 第21-22页 |
| ·椭偏仪 | 第22页 |
| ·紫外—可见光分光光度计 | 第22-23页 |
| 第3章 射频磁控溅射制备Zn_3N_2薄膜 | 第23-37页 |
| ·实验过程 | 第23-24页 |
| ·衬底清洗 | 第23页 |
| ·射频磁控溅射制备氮化锌薄膜 | 第23-24页 |
| ·实验结果分析 | 第24-35页 |
| ·氮化锌薄膜的XRD分析 | 第24-29页 |
| ·氮化锌薄膜的表面形貌 | 第29-30页 |
| ·氮化锌薄膜的光学性质研究 | 第30-35页 |
| ·本章小结 | 第35-37页 |
| 第4章 射频磁控溅射制备Al N薄膜 | 第37-53页 |
| ·引言 | 第37页 |
| ·氮化铝薄膜的制备和表征方法 | 第37-38页 |
| ·衬底温度对氮化铝薄膜影响 | 第38-43页 |
| ·衬底温度对氮化铝薄膜结晶性的影响 | 第38-40页 |
| ·衬底温度对氮化铝薄膜光学性质的影响 | 第40-43页 |
| ·氮气含量对氮化铝薄膜的影响 | 第43-48页 |
| ·氮气含量对氮化铝薄膜结晶性的影响 | 第44-45页 |
| ·氮气含量对氮化铝薄膜沉积速率的影响 | 第45-46页 |
| ·氮气含量对氮化铝薄膜光学性质的影响 | 第46-48页 |
| ·工作气压对氮化铝薄膜的影响 | 第48-49页 |
| ·衬底材料对氮化铝薄膜的影响 | 第49-50页 |
| ·本章小结 | 第50-53页 |
| 结论 | 第53-55页 |
| 参考文献 | 第55-59页 |
| 攻读硕士学位期间发表的学术论文 | 第59-61页 |
| 致谢 | 第61页 |
