基于SOI光学谐振腔的表面光滑机理及其关键技术研究
| 摘要 | 第1-5页 |
| Abstract | 第5-9页 |
| 第一章 绪论 | 第9-19页 |
| ·研究背景及意义 | 第9-12页 |
| ·表面光滑处理研究现状 | 第12-17页 |
| ·氢退火法 | 第12-14页 |
| ·高能束激光局部修饰法 | 第14-16页 |
| ·高温热氧化法 | 第16-17页 |
| ·本人主要研究工作 | 第17-19页 |
| 第二章 粗糙度对光学微腔传输特性的影响分析 | 第19-30页 |
| ·光学微腔传输理论 | 第19-21页 |
| ·光学微腔特性指标 | 第21-24页 |
| ·谐振波长λ_m及频率 f | 第21-22页 |
| ·自由频谱范围 FSR | 第22-23页 |
| ·半高全宽 FWHM | 第23页 |
| ·品质因数 Q | 第23-24页 |
| ·精细度 F | 第24页 |
| ·波导粗糙度的产生原因 | 第24-26页 |
| ·粗糙度对光学微腔传输特性的影响 | 第26-29页 |
| ·本章小结 | 第29-30页 |
| 第三章 光学微腔制备及氧化处理 | 第30-45页 |
| ·SOI 光学谐振腔的制备 | 第30-36页 |
| ·光学微腔高度及宽度设计 | 第30-31页 |
| ·耦合间距设计 | 第31-32页 |
| ·MEMS 制备流程 | 第32-36页 |
| ·高温热氧化工艺原理 | 第36-38页 |
| ·去金属标记 | 第38-39页 |
| ·单次氧化与分级氧化工艺 | 第39-41页 |
| ·氧化厚度测量及 BOE 腐蚀 | 第41-43页 |
| ·本章小结 | 第43-45页 |
| 第四章 光学谐振腔性能测试与分析 | 第45-53页 |
| ·实验测试系统平台 | 第45-47页 |
| ·光学微腔耦合测试 | 第47-48页 |
| ·单次氧化与分级氧化后结构性能比较 | 第48-52页 |
| ·本章小结 | 第52-53页 |
| 第五章 总结与展望 | 第53-55页 |
| ·工作总结 | 第53-54页 |
| ·工作展望 | 第54-55页 |
| 参考文献 | 第55-61页 |
| 攻读硕士学位期间发表的论文及取得的研究成果 | 第61-62页 |
| 致谢 | 第62-63页 |
