摘要 | 第1-6页 |
ABSTRACT | 第6-11页 |
第一章 绪论 | 第11-26页 |
·引言 | 第11-13页 |
·碳纳米管概述 | 第13-20页 |
·碳纳米管的发现 | 第13-14页 |
·碳纳米管的结构 | 第14-16页 |
·碳纳米管的制备方法及生长机理 | 第16-18页 |
·碳纳米管的基本物理性质 | 第18-20页 |
·碳的同素异形体概述 | 第20-23页 |
·杂化轨道理论 | 第23-26页 |
第二章 正电子湮没谱学 | 第26-42页 |
·正电子的发现 | 第26-27页 |
·正电子的基本性质 | 第27-28页 |
·正电子在固体中的动力学 | 第28-32页 |
·正电子的热化 | 第28-29页 |
·正电子的注入深度分布 | 第29-31页 |
·正电子在固体中的扩散 | 第31-32页 |
·正电子在固体中的湮没 | 第32-37页 |
·正电子的自由态湮没 | 第33页 |
·正电子的缺陷捕获态湮没 | 第33-35页 |
·正电子的湮没截面和湮没率 | 第35-37页 |
·电子偶素的发现 | 第37页 |
·电子偶素的基本性质 | 第37-38页 |
·固体中电子偶素的形成机制 | 第38-39页 |
·电子偶素的湮没 | 第39-42页 |
·电子偶素湮没选择定则 | 第39页 |
·电子偶素的湮没率 | 第39-42页 |
第三章 碳纳米管的寿命谱研究 | 第42-64页 |
·正电子湮没寿命谱测量介绍 | 第42-47页 |
·正电子源 | 第42-44页 |
·正电子湮没寿命谱测量的基本原理 | 第44页 |
·正电子湮没寿命谱测量的实验装置 | 第44-45页 |
·正电子湮没寿命谱测量的数据分析方法 | 第45-47页 |
·碳纳米管样品信息 | 第47-49页 |
·碳纳米管的透射电子显微镜(TEM)观察 | 第49-51页 |
·单壁碳纳米管的正电子湮没寿命谱研究 | 第51-59页 |
·碳纳米管的寿命研究现状 | 第51-53页 |
·单壁碳纳米管的湮没寿命数目 | 第53页 |
·单壁碳纳米管的主要正电子湮没位置 | 第53-55页 |
·单壁碳纳米管在不同静压力下的寿命测量 | 第55-56页 |
·单壁碳纳米管在不同气氛下的寿命测量 | 第56-59页 |
·多壁碳纳米管(直径<8nm)的正电子湮没寿命谱研究 | 第59-61页 |
·多壁碳纳米管(直径<8nm)的湮没寿命数目 | 第59页 |
·多壁碳纳米管(直径<8nm)在不同静压力下的寿命测量 | 第59-60页 |
·多壁碳纳米管(直径<8nm)在不同气氛下的寿命测量 | 第60-61页 |
·多壁碳纳米管随直径变化的寿命谱研究 | 第61-63页 |
·小结 | 第63-64页 |
第四章 碳纳米管的多普勒展宽研究 | 第64-85页 |
·正电子湮没多普勒展宽测量简介 | 第64-67页 |
·正电子湮没多普勒展宽测量的基本原理 | 第64-65页 |
·正电子湮没多普勒展宽测量的实验装置 | 第65页 |
·正电子湮没多普勒展宽测量实验分析方法 | 第65-67页 |
·正电子湮没符合多普勒展宽技术简介 | 第67-72页 |
·正电子湮没符合多普勒技术特点 | 第67-69页 |
·正电子湮没符合多普勒展宽实验装置 | 第69-70页 |
·正电子湮没符合多普勒展宽实验分析方法 | 第70-72页 |
·碳纳米管的符合多普勒展宽实验研究 | 第72-83页 |
·碳纳米管多普勒展宽研究现状 | 第72页 |
·样品准备 | 第72页 |
·同一碳管样品在不同温度下的符合多普勒展宽 | 第72-76页 |
·不同碳管样品在同一温度下的符合多普勒展宽 | 第76-83页 |
·小结 | 第83-85页 |
第五章 正电子理论计算 | 第85-102页 |
·正电子湮没寿命及电子动量分布的计算简介 | 第85-89页 |
·理论背景简介 | 第85-86页 |
·湮没寿命计算方法 | 第86-87页 |
·电子动量分布计算方法 | 第87-88页 |
·Doppler程序包 | 第88-89页 |
·计算结果与讨论 | 第89-100页 |
·各轨道电子湮没几率计算 | 第89-93页 |
·石墨的各层电子湮没几率之比 | 第93-94页 |
·金刚石的各层电子湮没几率之比 | 第94-96页 |
·碳化硅的各层电子湮没几率之比 | 第96-98页 |
·第二周期元素Li、Be的各层电子湮没几率之比 | 第98-100页 |
·不同管径单壁碳纳米管束的正电子寿命计算 | 第100页 |
·小结 | 第100-102页 |
参考文献 | 第102-106页 |
致谢 | 第106-107页 |
在读期间发表的学术论文与取得的研究成果 | 第107-108页 |