摘要 | 第1-6页 |
ABSTRACT | 第6-8页 |
目录 | 第8-10页 |
第1章 绪论 | 第10-24页 |
·铁电材料的研究进展 | 第10页 |
·铁电材料的应用 | 第10-11页 |
·铁电薄膜制备技术 | 第11-15页 |
·超细粉体的制备 | 第15-17页 |
·纳米粉体的分散 | 第17-18页 |
·溶胶-凝胶法的改进 | 第18-22页 |
·选题背景和研究内容 | 第22-24页 |
第2章 实验设计及研究方法 | 第24-29页 |
·实验原料及试剂 | 第24页 |
·实验设备及测试仪器 | 第24-25页 |
·纳米粉体的合成工艺 | 第25-26页 |
·悬浊液的制备 | 第26页 |
·粉末溶胶法制备厚膜工艺 | 第26-27页 |
·厚膜的表征方法 | 第27-29页 |
第3章 C_(0.4)S_(0.6)BI纳米粉体的制备与表征 | 第29-35页 |
·引言 | 第29页 |
·热分析(DSC-TG) | 第29-30页 |
·C_(0.4)S_(0.6)BTI纳米粉体的制备 | 第30-31页 |
·C_(0.4)S_(0.6)BTI纳米粉体的表征 | 第31-34页 |
·本章小结 | 第34-35页 |
第4章 处理工艺对C_(0.4)S_(0.6)BTI厚膜结构的影响 | 第35-44页 |
·引言 | 第35页 |
·PVP的加入量对C_(0.4)S_(0.6)BTI厚膜结构的影响 | 第35-36页 |
·溶胶浓度对C_(0.4)S_(0.6)BTI厚膜结构的影响 | 第36-37页 |
·匀胶速度对C_(0.4)S_(0.6)BTI厚膜结构的影响 | 第37-40页 |
·热分解温度对C_(0.4)S_(0.6)BTI厚膜结构的影响 | 第40-42页 |
·退火温度对C_(0.4)S_(0.6)BTI厚膜结构的影响 | 第42-43页 |
·本章结论 | 第43-44页 |
第5章 A轴择优取向的C_(0.4)S_(0.6)BTI厚膜的制备及表征 | 第44-51页 |
·A轴择优取向的C_(0.4)S_(0.6)BTI厚膜的制备 | 第44页 |
·再退火时间对C_(0.4)S_(0.6)BTI厚膜结构的影响 | 第44-48页 |
·A轴择优取向的C_(0.4)S_(0.6)BTI厚膜的电性能分析 | 第48-50页 |
·本章结论 | 第50-51页 |
第6章 全文总结 | 第51-53页 |
·主要成果 | 第51页 |
·进一步解决的问题 | 第51-53页 |
参考文献 | 第53-59页 |
后记 | 第59-60页 |
攻读硕士学位期间论文发表及科研情况 | 第60页 |