| 摘要 | 第1-8页 |
| Abstract | 第8-10页 |
| 第1章 绪论 | 第10-18页 |
| ·引言 | 第10页 |
| ·半导体光催化材料的研究状况 | 第10-13页 |
| ·半导体光催化原理 | 第10-11页 |
| ·半导体光催化性能的主要影响因素 | 第11-12页 |
| ·提高半导体材料光催化性能的主要途径 | 第12-13页 |
| ·氧化锌半导体光催化剂研究进展 | 第13-15页 |
| ·铋系半导体光催化剂研究进展 | 第15-17页 |
| ·本论文研究内容 | 第17-18页 |
| 第2章 ZnO 微米花：三维层状介孔结构光催化剂的合成 | 第18-30页 |
| ·引言 | 第18页 |
| ·实验试剂和制备方法 | 第18-19页 |
| ·试剂 | 第18页 |
| ·花状氧化锌的制备 | 第18-19页 |
| ·光催化性能测试 | 第19页 |
| ·样品表征 | 第19页 |
| ·结果与讨论 | 第19-28页 |
| ·差热热重分析 | 第19-22页 |
| ·XRD 数据分析 | 第22-23页 |
| ·红外吸收谱测试 | 第23-24页 |
| ·三维 ZnO 微米花形貌 | 第24-25页 |
| ·ZnO 光催化性能的研究 | 第25-27页 |
| ·XPS 数据分析 | 第27-28页 |
| ·本章小结 | 第28-30页 |
| 第3章 可见光响应铋系半导体的制备及其光催化性能测试 | 第30-37页 |
| ·引言 | 第30-31页 |
| ·实验部分 | 第31页 |
| ·试剂 | 第31页 |
| ·Bi_2O_3的制备过程 | 第31页 |
| ·样品催化性能测试及表征 | 第31页 |
| ·结果和讨论 | 第31-36页 |
| ·Bi_2O_3结构与形貌 | 第31-34页 |
| ·Bi_2O_3光催化性能测试 | 第34-36页 |
| ·本章小结 | 第36-37页 |
| 结论与展望 | 第37-38页 |
| 参考文献 | 第38-45页 |
| 攻读硕士学位期间发表论文 | 第45-46页 |
| 致谢 | 第46页 |