摘要 | 第1-4页 |
Abstract | 第4-7页 |
第一章 绪论 | 第7-29页 |
·激光防护材料的性能要求 | 第7-8页 |
·光限幅原理概述 | 第8-9页 |
·光限幅材料 | 第9-20页 |
·无机半导体材料 | 第9-10页 |
·有机小分子光限幅材料 | 第10-12页 |
·多烯和花菁染料 | 第10页 |
·足球烯 | 第10-11页 |
·大环化合物 | 第11-12页 |
·高分子光限幅材料 | 第12-20页 |
·含C_(60)功能高分子光限幅材料 | 第12-14页 |
·含碳纳米管高分子光限幅材料 | 第14-15页 |
·聚炔类的高分子光限幅材料 | 第15-17页 |
·其它共轭高分子光限幅材料 | 第17-18页 |
·其它高分子光限幅材料 | 第18-20页 |
·POSS基无机/有机杂化材料 | 第20-22页 |
·课题的提出 | 第22页 |
参考文献 | 第22-29页 |
第二章 目标小分子化合物的合成及表征 | 第29-53页 |
·前言 | 第29页 |
·设计的目标单体和合成路线 | 第29-31页 |
·目标单体 | 第29-30页 |
·单体的合成路线 | 第30-31页 |
·单体化合物合成实验及结构分析 | 第31-40页 |
·合成所用主要试剂及原料 | 第31页 |
·主要仪器 | 第31-32页 |
·无水试剂的制备 | 第32页 |
·无水DMF的制备 | 第32页 |
·无水三乙胺的制备 | 第32页 |
·无水无氧四氢呋喃的制备 | 第32页 |
·无水甲苯的制备 | 第32页 |
·合成实验和结构分析 | 第32-40页 |
·N-甲基-N-羟乙基苯胺的合成 | 第32-33页 |
·4-溴-4’-(N甲基-N-羟乙基氨基)偶氮苯的合成 | 第33-34页 |
·4-硝基-4’-(N甲基-N-羟乙基氨基)偶氮苯的合成 | 第34-35页 |
·对烯丙氧基苯甲酸的合成 | 第35-36页 |
·对烯丙氧基苯甲酰氯的合成 | 第36页 |
·化合物(3i)的合成 | 第36-37页 |
·单体的合成 | 第37-40页 |
·结论 | 第40页 |
·参考文献 | 第40-53页 |
第三章 大分子的合成、表征及性能 | 第53-69页 |
·前言 | 第53页 |
·主要原料和使用仪器 | 第53-54页 |
·主要原料 | 第53页 |
·主要使用仪器 | 第53-54页 |
·主要试剂的精制 | 第54页 |
·无水无氧四氢呋喃的制备 | 第54页 |
·催化剂(Pt(dvs))的准备 | 第54页 |
·T_8H_8的精制 | 第54页 |
·POSS基有机/无机杂化材料的合成 | 第54-67页 |
·合成实验 | 第54-55页 |
·结果与讨论 | 第55-57页 |
·杂化大分子的结构表征 | 第57-63页 |
·M2-T_8H_ 的结构表征 | 第57-59页 |
·M4-T_8H_ 8的结构表征 | 第59-63页 |
·杂化大分子的热性能 | 第63-66页 |
·结论 | 第66-67页 |
参考文献: | 第67-69页 |
第四章 单体聚合及表征 | 第69-85页 |
·前言 | 第69-70页 |
·主要原料和使用仪器 | 第70页 |
·主要原料 | 第70页 |
·主要使用仪器 | 第70页 |
·主要试剂的精制 | 第70-71页 |
·1,4-二氧六环的精制 | 第70页 |
·引发剂(AIBN)的精制 | 第70-71页 |
·实验部分 | 第71-73页 |
·反应路线 | 第71-72页 |
·单体的聚合 | 第72页 |
·自由基引发聚合 | 第72页 |
·辐射聚合 | 第72页 |
·CMS的聚合 | 第72页 |
·PCMS-3和PCMS-4的合成 | 第72-73页 |
·实验结果与分析 | 第73-83页 |
·聚合的结果 | 第73页 |
·聚合物的表征 | 第73-83页 |
·辐射聚合物P3的表征 | 第73-75页 |
·辐射聚合物P4的表征 | 第75-77页 |
·聚合物PCMS的表征 | 第77-79页 |
·聚合物PCMS-3的表征 | 第79-80页 |
·聚合物PCMS-4的表征 | 第80-83页 |
·结论 | 第83-84页 |
参考文献: | 第84-85页 |
致谢 | 第85-86页 |
硕士期间发表或接受的学术论文目录 | 第86页 |