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新型杂化功能材料制备与结构表征

摘要第1-4页
Abstract第4-7页
第一章 绪论第7-29页
   ·激光防护材料的性能要求第7-8页
   ·光限幅原理概述第8-9页
   ·光限幅材料第9-20页
     ·无机半导体材料第9-10页
     ·有机小分子光限幅材料第10-12页
       ·多烯和花菁染料第10页
       ·足球烯第10-11页
       ·大环化合物第11-12页
     ·高分子光限幅材料第12-20页
       ·含C_(60)功能高分子光限幅材料第12-14页
       ·含碳纳米管高分子光限幅材料第14-15页
       ·聚炔类的高分子光限幅材料第15-17页
       ·其它共轭高分子光限幅材料第17-18页
       ·其它高分子光限幅材料第18-20页
   ·POSS基无机/有机杂化材料第20-22页
   ·课题的提出第22页
 参考文献第22-29页
第二章 目标小分子化合物的合成及表征第29-53页
   ·前言第29页
   ·设计的目标单体和合成路线第29-31页
     ·目标单体第29-30页
     ·单体的合成路线第30-31页
   ·单体化合物合成实验及结构分析第31-40页
     ·合成所用主要试剂及原料第31页
     ·主要仪器第31-32页
     ·无水试剂的制备第32页
       ·无水DMF的制备第32页
       ·无水三乙胺的制备第32页
       ·无水无氧四氢呋喃的制备第32页
       ·无水甲苯的制备第32页
     ·合成实验和结构分析第32-40页
       ·N-甲基-N-羟乙基苯胺的合成第32-33页
       ·4-溴-4’-(N甲基-N-羟乙基氨基)偶氮苯的合成第33-34页
       ·4-硝基-4’-(N甲基-N-羟乙基氨基)偶氮苯的合成第34-35页
       ·对烯丙氧基苯甲酸的合成第35-36页
       ·对烯丙氧基苯甲酰氯的合成第36页
       ·化合物(3i)的合成第36-37页
       ·单体的合成第37-40页
   ·结论第40页
   ·参考文献第40-53页
第三章 大分子的合成、表征及性能第53-69页
   ·前言第53页
   ·主要原料和使用仪器第53-54页
     ·主要原料第53页
     ·主要使用仪器第53-54页
   ·主要试剂的精制第54页
     ·无水无氧四氢呋喃的制备第54页
     ·催化剂(Pt(dvs))的准备第54页
     ·T_8H_8的精制第54页
   ·POSS基有机/无机杂化材料的合成第54-67页
     ·合成实验第54-55页
     ·结果与讨论第55-57页
     ·杂化大分子的结构表征第57-63页
       ·M2-T_8H_ 的结构表征第57-59页
       ·M4-T_8H_ 8的结构表征第59-63页
     ·杂化大分子的热性能第63-66页
     ·结论第66-67页
 参考文献:第67-69页
第四章 单体聚合及表征第69-85页
   ·前言第69-70页
   ·主要原料和使用仪器第70页
     ·主要原料第70页
     ·主要使用仪器第70页
   ·主要试剂的精制第70-71页
     ·1,4-二氧六环的精制第70页
     ·引发剂(AIBN)的精制第70-71页
   ·实验部分第71-73页
     ·反应路线第71-72页
     ·单体的聚合第72页
       ·自由基引发聚合第72页
       ·辐射聚合第72页
     ·CMS的聚合第72页
     ·PCMS-3和PCMS-4的合成第72-73页
   ·实验结果与分析第73-83页
     ·聚合的结果第73页
     ·聚合物的表征第73-83页
       ·辐射聚合物P3的表征第73-75页
       ·辐射聚合物P4的表征第75-77页
       ·聚合物PCMS的表征第77-79页
       ·聚合物PCMS-3的表征第79-80页
       ·聚合物PCMS-4的表征第80-83页
   ·结论第83-84页
 参考文献:第84-85页
致谢第85-86页
硕士期间发表或接受的学术论文目录第86页

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