不同[Li]/[Nb]比Ce:LiNbO3晶体的生长及光学性能表征
摘要 | 第1-5页 |
Abstract | 第5-9页 |
第1章 绪论 | 第9-17页 |
·课题背景 | 第9-15页 |
·光折变效应及光折变材料 | 第9-10页 |
·光折变晶体 | 第10-11页 |
·铌酸锂晶体的结构及缺陷模型 | 第11-12页 |
·铌酸锂晶体研究进展 | 第12-14页 |
·近化学计量比铌酸锂晶体的生长方法 | 第14-15页 |
·本课题的研究内容和意义 | 第15-17页 |
第2章 实验材料及实验方法 | 第17-25页 |
·晶体生长的原料及配比 | 第17-18页 |
·晶体生长设备 | 第18-19页 |
·晶体的极化装置 | 第19页 |
·晶体的后处理 | 第19-20页 |
·晶体的光谱学测试仪器及实验条件 | 第20-21页 |
·晶体的XRD测试仪器及实验条件 | 第21页 |
·晶体的DTA测试仪器及实验条件 | 第21页 |
·晶体的IR测试仪器及试验条件 | 第21页 |
·晶体的UV测试仪器及实验条件 | 第21页 |
·晶体的光折变性能 | 第21-25页 |
·衍射效率 | 第22页 |
·写入时间和读出时间 | 第22页 |
·光折变灵敏度 | 第22-23页 |
·动态范围 | 第23页 |
·存储寿命 | 第23-24页 |
·晶体光折变性能测试装置及测试条件 | 第24-25页 |
第3章 晶体的生长及样品制备 | 第25-33页 |
·晶体的生长 | 第25-27页 |
·晶体生长的前期准备 | 第25-26页 |
·晶体的生长过程 | 第26-27页 |
·晶体生长工艺参数的选择 | 第27-30页 |
·温度梯度 | 第27-28页 |
·晶体的生长速度 | 第28-29页 |
·晶体的旋转速度 | 第29-30页 |
·晶体生长的工艺参数 | 第30页 |
·晶体的后处理 | 第30-32页 |
·晶体的极化 | 第30-31页 |
·晶体的定向切割 | 第31页 |
·晶体的氧化还原处理 | 第31-32页 |
·晶体的研磨和抛光 | 第32页 |
·本章小结 | 第32-33页 |
第4 章 掺铈铌酸锂晶体的光学性能表征及结果分析 | 第33-50页 |
·晶体的XRD测试 | 第33-36页 |
·XRD图谱及计算结果 | 第33-35页 |
·XRD测试结果及掺杂离子占位分析 | 第35-36页 |
·晶体的DTA测试 | 第36-39页 |
·晶体的DTA测试结果 | 第36-38页 |
·DTA测试结果分析 | 第38-39页 |
·晶体的IR测试 | 第39-43页 |
·IR测试结果及晶体缺陷结构分析 | 第40-42页 |
·OH-吸收峰移动机理研究 | 第42-43页 |
·晶体的UV测试及结果分析 | 第43-48页 |
·晶体的光折变性能测试结果及分析 | 第48-49页 |
·本章小结 | 第49-50页 |
结论 | 第50-51页 |
参考文献 | 第51-57页 |
攻读学位期间发表的学术论文 | 第57-58页 |
哈尔滨工业大学硕士学位论文原创性声明 | 第58页 |
哈尔滨工业大学硕士学位论文使用授权书 | 第58页 |
哈尔滨工业大学硕士学位涉密论文管理 | 第58-59页 |
致谢 | 第59页 |