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Si/SiGe量子阱空穴子带跃迁及其在中远红外光发射/探测器中的应用研究

摘要第1-6页
Abstract第6-15页
第一章 绪论第15-27页
   ·硅基中远红外光电器件的研究背景和意义第15-17页
   ·硅基中远红外光电器件的研究进展和存在的问题第17-22页
   ·本文的工作及其组织结构第22-24页
 参考文献第24-27页
第二章 应变Si/SiGe量子阱空穴能级和子带跃迁第27-56页
   ·K·P方法计算应变Si/SiGe量子阱的能带结构第27-35页
     ·理论方法第27-32页
     ·能带计算参数第32-33页
     ·Si/SiGe量子阱的空穴能级第33-35页
   ·压应变SiGe合金空穴有效质量第35-38页
   ·压应变Si/SiGe量子阱空穴子带跃迁与光吸收第38-47页
     ·空穴子带跃迁矩阵元第39-43页
     ·p型掺杂量子阱空穴态密度和费米能级第43-45页
     ·空穴子带跃迁光吸收谱第45-47页
   ·张应变Si/SiGe量子阱空穴子带跃迁特性第47-52页
     ·张应变Si/SiGe量子阱空穴能级和有效质量第47-50页
     ·p型掺杂张应变Si/SiGe量子阱空穴态密度和费米能级第50-51页
     ·张应变Si/SiGe量子阱空穴子带光吸收谱第51-52页
   ·本章小结第52-54页
 参考文献第54-56页
第三章 Si/SiGe量子级联激光器的能带设计和波导优化第56-78页
   ·Si/SiGe量子级联激光器的能带设计第56-65页
     ·Si/SiGe量子级联激光器的工作原理第56-58页
     ·Si/SiGe量子阱空穴子带的能量间距第58-60页
     ·中红外Si/SiGe量子级联激光器的能带设计第60-62页
     ·太赫兹Si/SiGe量子级联激光器的能带设计第62-65页
   ·Si/SiGe量子级联激光器的增益系数第65-68页
   ·太赫兹Si/SiGe量子级联激光器的波导和损耗第68-75页
     ·太赫兹Si/SiGe量子级联激光器的波导结构第69页
     ·Drude模型和波导材料介电常数第69-72页
     ·太赫兹波导的限制因子和模式损耗第72-75页
   ·本章小结第75-76页
 参考文献第76-78页
第四章 B-QB模式Si/SiGe量子阱红外探测器优化设计第78-106页
   ·压应变Si/SiGe量子阱红外探测器的能带设计第78-84页
   ·张应变Si/SiGe量子阱红外探测器的能带设计第84-89页
   ·正入射Si/SiGe量子阱红外探测器的品质因子第89-100页
     ·光电流和光电导增益第90-92页
     ·响应度和捕获概率第92-94页
     ·量子效率第94-97页
     ·暗电流第97-98页
     ·暗电流噪声和探测灵敏度第98-100页
   ·张应变Si/SiGe量子阱红外探测器的品质因子第100-103页
     ·量子效率和响应谱第100-101页
     ·暗电流和探测灵敏度第101-103页
   ·本章小结第103-104页
 参考文献第104-106页
第五章 正入射型Si/SiGe QWIP材料生长与器件研制第106-134页
   ·Si/SiGe量子阱红外探测器材料生长的若干问题探讨第106-116页
     ·UHV/CVD生长Si/SiGe异质结量子阱第106-109页
     ·Si/SiGe材料系的P型原位掺杂第109-111页
     ·一种计算Si/SiGe异质结外延生长速率和组分的方法第111-114页
     ·Si/SiGe量子阱红外探测器的材料结构第114-116页
   ·正入射Si/SiGe量子阱红外探测器制作关键工艺第116-123页
     ·器件版图设计第116-117页
     ·工艺流程第117-121页
     ·器件暗电流特性第121-123页
   ·正入射Si/SiGe量子阱红外探测器的红外吸收测试第123-130页
     ·傅里叶变换红外光谱仪(FTIR)第123-124页
     ·p型衬底Si材料的红外光吸收第124-126页
     ·自由载流子吸收第126页
     ·不同温度下Si/SiGe量子阱红外探测器的红外光吸收谱第126-130页
   ·本章小结第130-132页
 参考文献第132-134页
第六章 全文总结和展望第134-136页
获奖和论文发表情况第136-137页
致谢第137页

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