磁性诱发两相分离型Co-V基合金薄膜的制备与磁学性能研究
| 摘要 | 第1-11页 |
| Abstract | 第11-13页 |
| 第一章 绪论 | 第13-28页 |
| 前言 | 第13页 |
| ·磁记录的发展历史 | 第13-17页 |
| ·磁记录原理 | 第17-23页 |
| ·纵向磁记录 | 第18-20页 |
| ·垂直磁记录 | 第20-22页 |
| ·理想的垂直磁记录介质结构 | 第22-23页 |
| ·Co基垂直磁记录介质研究概况 | 第23-28页 |
| ·Co-Cr基垂直磁记录薄膜的理论基础 | 第23-26页 |
| ·Co基垂直磁记录薄膜的研究进展 | 第26-28页 |
| 第二章 磁性薄膜样品的制备与分析测试 | 第28-44页 |
| 前言 | 第28页 |
| ·磁控溅射原理 | 第28-31页 |
| ·溅射镀膜的原理 | 第28-31页 |
| ·直流溅射法 | 第29-30页 |
| ·射频溅射法 | 第30页 |
| ·磁控溅射法 | 第30-31页 |
| ·磁控溅射设备 | 第31-33页 |
| ·薄膜样品的制备 | 第33-35页 |
| ·基片的清洗 | 第33-34页 |
| ·溅射工艺条件 | 第34-35页 |
| ·薄膜退火处理 | 第35页 |
| ·薄膜样品的分析测试 | 第35-44页 |
| ·样品的磁学性能测试及原理 | 第35-38页 |
| ·磁学性能测试仪器 | 第35-37页 |
| ·磁学性能测试原理 | 第37-38页 |
| ·薄膜样品的结构分析 | 第38-40页 |
| ·薄膜样品的厚度测量 | 第40页 |
| ·薄膜表面形貌观察和成分分析 | 第40-42页 |
| ·薄膜微观组织观察 | 第42-44页 |
| ·高分辨透射电镜 | 第42-43页 |
| ·透射电镜样品制备 | 第43-44页 |
| 第三章 Co-V薄膜的制备与磁学性能测试 | 第44-81页 |
| 前言 | 第44页 |
| ·Co-V二元合金相图及薄膜的成分设计 | 第44-46页 |
| ·Co-V合金薄膜的制备工艺 | 第46-48页 |
| ·Co-V合金薄膜的晶体结构 | 第48-51页 |
| ·薄膜的组织观察 | 第51-54页 |
| ·薄膜的表面形貌观察 | 第51-52页 |
| ·薄膜微观组织形貌观察 | 第52-53页 |
| ·薄膜的TEM组织观察 | 第53-54页 |
| ·薄膜的磁学性能 | 第54-79页 |
| ·V含量对薄膜磁学性能的影响 | 第54-64页 |
| ·溅射温度对磁学性能的影响 | 第64-72页 |
| ·薄膜厚度对磁学性能的影响 | 第72-77页 |
| ·退火处理对薄膜磁学性能的影响 | 第77-79页 |
| ·小结 | 第79-81页 |
| 第四章:Co-V-Ta薄膜的制备与磁学性能测试 | 第81-97页 |
| 前言 | 第81页 |
| ·Co-V-Ta薄膜制备的基本工艺参数 | 第81-82页 |
| ·Ta含量对薄膜晶体结构的影响 | 第82-83页 |
| ·Ta含量对薄膜的磁学性能的影响 | 第83-84页 |
| ·温度对薄膜磁学性能的影响 | 第84-92页 |
| ·退火对薄膜磁学性能的影响 | 第92-96页 |
| ·小结 | 第96-97页 |
| 第五章 Co-Cr-Ta三元系相平衡的实验测定 | 第97-115页 |
| 前言 | 第97页 |
| ·Co-Cr-Ta三元系相平衡的研究现状 | 第97-98页 |
| ·基础二元系 | 第97页 |
| ·Co-Cr-Ta三元系 | 第97-98页 |
| ·Co-Cr-Ta三元系相平衡的实验测定 | 第98-115页 |
| ·实验方法 | 第98-99页 |
| ·合金样品的制备 | 第98页 |
| ·热处理方法 | 第98页 |
| ·显微组织的观察 | 第98-99页 |
| ·成分分析 | 第99页 |
| ·X射线衍射 | 第99页 |
| ·实验结果与讨论 | 第99-115页 |
| 第六章 总结 | 第115-116页 |
| 参考文献 | 第116-121页 |
| 致谢 | 第121-122页 |
| 攻读硕士学位期间科研成果 | 第122页 |
| 攻读硕士学位期间获得奖励 | 第122页 |
