| 摘要 | 第1-6页 |
| ABSTRACT | 第6-10页 |
| 第一章 绪论 | 第10-18页 |
| ·概述 | 第10-11页 |
| ·ZnO薄膜的晶体结构 | 第11-12页 |
| ·ZnO薄膜的应用 | 第12-13页 |
| ·ZnO薄膜的制备方法 | 第13-15页 |
| ·离子注入技术 | 第15-16页 |
| ·研究内容 | 第16页 |
| ·研究结果 | 第16-18页 |
| 第二章 实验方法、步骤和实验原理 | 第18-31页 |
| ·溶胶-凝胶(Sol-gel)技术概述及特点 | 第18-19页 |
| ·溶胶-凝胶法制备薄膜的工艺过程 | 第19-21页 |
| ·溶胶制备 | 第19-20页 |
| ·凝胶制备 | 第20页 |
| ·煅烧和烧结 | 第20页 |
| ·基片的清洗 | 第20-21页 |
| ·薄膜涂覆工艺 | 第21-23页 |
| ·浸涂法 | 第21-22页 |
| ·旋转涂覆法 | 第22页 |
| ·喷涂法 | 第22-23页 |
| ·离子注入掺杂改性原理 | 第23页 |
| ·样品测试 | 第23-31页 |
| ·X射线衍射(XRD) | 第23-25页 |
| ·原子力显微镜(AFM) | 第25页 |
| ·荧光光致发光谱(PL) | 第25-26页 |
| ·透射光谱与吸收光谱 | 第26-27页 |
| ·四探针法测量电阻率 | 第27-30页 |
| ·X射线光电子能谱(XPS) | 第30-31页 |
| 第三章 薄膜的制备、离子注入掺杂和结果分析 | 第31-45页 |
| ·溶胶-凝胶法制备ZnO薄膜及性能分析 | 第31-34页 |
| ·Zn离子注入ZnO薄膜及性能分析 | 第34-37页 |
| ·Zn离子注入ZnO薄膜 | 第34-35页 |
| ·结构分析 | 第35页 |
| ·光学性质分析 | 第35-37页 |
| ·溶胶-凝胶法制备ZnO:Al薄膜与ZnMgO:Al薄膜及性能分析 | 第37-39页 |
| ·N离子注入ZnO:Al薄膜与ZnMgO:Al薄膜及性能分析 | 第39-45页 |
| ·N离子注入 | 第39页 |
| ·结构分析 | 第39-40页 |
| ·电学性质分析 | 第40-41页 |
| ·XPS分析 | 第41-42页 |
| ·光学性质分析 | 第42-45页 |
| 第四章 薄膜热处理及结果分析 | 第45-58页 |
| ·Zn离子注入ZnO薄膜不同温度退火处理及性能分析 | 第45-47页 |
| ·结构分析 | 第45-46页 |
| ·光学性质分析 | 第46-47页 |
| ·N离子注入ZnO:Al薄膜不同温度退火处理及性能分析 | 第47-51页 |
| ·结构分析 | 第47-48页 |
| ·光学性质分析 | 第48-50页 |
| ·电阻率分析 | 第50-51页 |
| ·N离子注入ZnMgO:Al薄膜不同温度退火处理及性能分析 | 第51-53页 |
| ·结构分析 | 第51页 |
| ·光学性质分析 | 第51-53页 |
| ·ZnO:Al薄膜不同时间退火处理及性能分析 | 第53-58页 |
| ·结构分析 | 第54页 |
| ·光学性质分析 | 第54-57页 |
| ·电阻率分析 | 第57-58页 |
| 第五章 结论 | 第58-60页 |
| 致谢 | 第60-61页 |
| 参考文献 | 第61-66页 |
| 攻硕期间取得的研究成果 | 第66页 |
