| 摘要 | 第1-6页 |
| Abstract | 第6-11页 |
| 第一章 导言 | 第11-17页 |
| ·凝聚态物理学 | 第11-12页 |
| ·纳米电子学 | 第12-13页 |
| ·磁电子学 | 第13页 |
| ·巨磁电阻材料 | 第13-15页 |
| ·超巨磁阻材料 | 第15-17页 |
| 第二章 钙钛矿锰氧化物的研究状况与应用前景 | 第17-25页 |
| ·钙钛矿锰氧化物 | 第17-18页 |
| ·CMR理论的研究发展情况 | 第18-19页 |
| ·钙钛矿锰氧化物晶体结构及特性 | 第19-22页 |
| ·钙钛矿锰氧化物晶体结构 | 第19-21页 |
| ·导电特性 | 第21页 |
| ·磁性 | 第21-22页 |
| ·磁电阻效应 | 第22页 |
| ·钙钛矿锰氧化物材料应用前景 | 第22-25页 |
| 第三章 钙钛矿锰氧化物的理论研究 | 第25-32页 |
| ·超交换模型 | 第25页 |
| ·双交换(Double-exchange,简记为DE)机理 | 第25-28页 |
| ·双交换机理对绝缘-金属和顺磁-铁磁转变的解释 | 第26-27页 |
| ·对DE模型修正的J-T声子和极化子理论 | 第27-28页 |
| ·Jahn-Teller效应对CMR效应的解释 | 第28-29页 |
| ·最新理论发展——相分离机制 | 第29-32页 |
| 第四章 薄膜的制备 | 第32-43页 |
| ·概述 | 第32页 |
| ·PLD简介 | 第32-33页 |
| ·钙钛矿型材料的制备方法 | 第33-35页 |
| ·粉末的制备方法 | 第33-34页 |
| ·制备靶材 | 第34-35页 |
| ·主要实验设备介绍 | 第35-38页 |
| ·脉冲激光镀膜设备 | 第35页 |
| ·脉冲激光器 | 第35-36页 |
| ·高温炉 | 第36-37页 |
| ·压力机 | 第37页 |
| ·分析天平 | 第37-38页 |
| ·扫描探针显微镜 | 第38页 |
| ·LCMO薄膜的生长模式 | 第38-39页 |
| ·薄膜沉积工艺 | 第39-40页 |
| ·LCMO薄膜的后退火处理 | 第40页 |
| ·电极制作及测量时注意事项 | 第40页 |
| ·影响薄膜的因素 | 第40-41页 |
| ·实验注意事项 | 第41页 |
| ·小结 | 第41-43页 |
| 第五章 实验结果及讨论 | 第43-57页 |
| ·电阻温度关系测量方法 | 第43-44页 |
| ·薄膜的结构及形貌分析 | 第44-48页 |
| ·X射线衍射(XRD) | 第44-45页 |
| ·原子力显微镜 | 第45-47页 |
| ·薄膜的厚度测量 | 第47-48页 |
| ·R-T测量 | 第48-51页 |
| ·钙钛矿锰氧化物的电输运性质 | 第51-56页 |
| ·当T>T_P时,LCMO的电输运机理——高温极化子输运 | 第52-53页 |
·当T| 第53-55页 | |
| ·非均质结构对电输运的影响 | 第55-56页 |
| ·结论 | 第56-57页 |
| 第六章 结论和展望 | 第57-59页 |
| ·结论 | 第57页 |
| ·展望 | 第57-59页 |
| 参考文献 | 第59-63页 |