| 摘要 | 第1-5页 |
| ABSTRACT | 第5-6页 |
| 目录 | 第6-7页 |
| 第一章 绪论 | 第7-15页 |
| ·引言 | 第7-8页 |
| ·近场光存储介绍 | 第8-10页 |
| ·表面等离子体的特性及在近场光存储中的应用 | 第10-14页 |
| ·本论文的研究目的及主要工作 | 第14-15页 |
| 第二章 表面等离子体的理论分析及光超常增透的模拟计算 | 第15-29页 |
| ·表面等离子体光学简介 | 第15页 |
| ·表面等离子体的基本性质 | 第15-24页 |
| ·纳米孔及其阵列的光传输特性的模拟计算 | 第24-29页 |
| 第三章 器件的工艺研究 | 第29-46页 |
| ·引言 | 第29-31页 |
| ·磁控溅射技术 | 第31-33页 |
| ·电子束曝光技术 | 第33-41页 |
| ·离子束刻蚀技术 | 第41-44页 |
| ·器件制作结果及小结 | 第44-46页 |
| 第四章 器件的光学特性研究 | 第46-51页 |
| ·近场光的探测原理 | 第46-47页 |
| ·光学测试系统的设计和搭建 | 第47页 |
| ·器件的光学特性实验研究 | 第47-50页 |
| ·小结及讨论 | 第50-51页 |
| 结论 | 第51-52页 |
| 致谢 | 第52-53页 |
| 参考文献 | 第53-55页 |