| 摘要 | 第1-5页 |
| Abstract | 第5-9页 |
| 第1章 引言 | 第9-21页 |
| ·氮化硅陶瓷的结构特征、基本性能和应用 | 第9-12页 |
| ·氮化硅的结构特征 | 第9-11页 |
| ·氮化硅的性能 | 第11页 |
| ·氮化硅的应用 | 第11-12页 |
| ·含有定向排列颗粒的氮化硅陶瓷的研究进展 | 第12-20页 |
| ·含有定向排列颗粒的氮化硅陶瓷的制备方法 | 第13-15页 |
| ·晶须增强增韧的氮化硅陶瓷 | 第13-14页 |
| ·棒状β-Si_3N_4颗粒增强增韧氮化硅陶瓷 | 第14-15页 |
| ·含有定向排列颗粒的氮化硅陶瓷的制备工艺 | 第15-17页 |
| ·成型工艺 | 第15-17页 |
| ·烧结工艺 | 第17页 |
| ·含有定向排列颗粒的氮化硅陶瓷的结构对性能的影响 | 第17-20页 |
| ·对力学性能的影响 | 第17-18页 |
| ·对热学性能的影响 | 第18-20页 |
| ·课题的主要研究内容 | 第20-21页 |
| 第2章 实验与测试 | 第21-27页 |
| ·实验原料 | 第21-23页 |
| ·实验设计与工艺过程 | 第23-26页 |
| ·实验配比和工艺设计 | 第23-24页 |
| ·有机添加剂的选择原则 | 第24-26页 |
| ·实验设备 | 第26页 |
| ·测试 | 第26-27页 |
| 第3章 结果与讨论 | 第27-64页 |
| ·原料的表征和处理 | 第27-29页 |
| ·研磨对晶须长径比的影响 | 第27-28页 |
| ·球磨对晶须长径比的影响 | 第28-29页 |
| ·含有 Α-Si_3N_4晶须的料浆的制备及其流动性能的表征 | 第29-38页 |
| ·胶体稳定机制 | 第30-33页 |
| ·双电层和ξ电位 | 第30-31页 |
| ·颗粒间的相互作用及稳定分散 | 第31-33页 |
| ·Zeta电位对料浆的影响 | 第33-35页 |
| ·分散剂对料浆粘度的影响 | 第35-36页 |
| ·粘结剂对料浆粘度的影响 | 第36-37页 |
| ·增塑剂对料浆粘度的影响 | 第37-38页 |
| ·烧结助剂对料浆粘度的影响 | 第38页 |
| ·流延膜的制备及膜中晶须定向表征 | 第38-43页 |
| ·流延膜的制备和表征 | 第38-40页 |
| ·梳状挡板对膜中晶须定向的影响 | 第40-41页 |
| ·流延膜中晶须定向的XRD表征 | 第41-42页 |
| ·晶须的含量与膜中晶须定向程度的关系 | 第42-43页 |
| ·含有定向排列颗粒的氮化硅陶瓷的热压烧结、结构及其力学性能 | 第43-64页 |
| ·含有定向排列颗粒的氮化硅陶瓷的烧结致密化 | 第43-50页 |
| ·密度变化与烧结工艺的关系 | 第43-44页 |
| ·不同烧结温度的物相变化 | 第44-47页 |
| ·不同烧结温度制备的块体的微观结构 | 第47-48页 |
| ·致密化机理 | 第48-50页 |
| ·含有定向排列颗粒的氮化硅陶瓷的各向异性的分析 | 第50-55页 |
| ·晶向指数换算 | 第50-52页 |
| ·烧结块体各向异性的XRD表征 | 第52-55页 |
| ·烧结块体各向异性的SEM观察 | 第55页 |
| ·含有定向排列颗粒的氮化硅陶瓷的力学性能分析 | 第55-64页 |
| ·烧结块体的断裂韧性和硬度分析 | 第56-59页 |
| ·烧结块体的抗弯强度分析 | 第59-64页 |
| 第4章 结论 | 第64-66页 |
| 参考文献 | 第66-70页 |
| 致谢 | 第70页 |