中文摘要 | 第1-12页 |
英文摘要 | 第12-15页 |
第一章 全息记录材料综述 | 第15-35页 |
·理想全息记录材料 | 第15页 |
·全息记录材料简介 | 第15-19页 |
·卤化银全息记录材料 | 第15-16页 |
·重铬酸盐明胶(DCG)全息记录材料 | 第16页 |
·晶体全息记录材料 | 第16-17页 |
·光导热塑材料全息记录材料 | 第17页 |
·光致抗蚀剂全息记录材料 | 第17-18页 |
·光敏聚合物全息记录材料 | 第18-19页 |
·光敏聚合物全息记录材料 | 第19-25页 |
·光敏聚合物全息记录材料特性 | 第19-20页 |
·光敏聚合物全息记录及其反应机理 | 第20-21页 |
·光敏聚合物的组成 | 第21-24页 |
·成膜物的选择 | 第21页 |
·单体的选择 | 第21-23页 |
·溶剂的选择 | 第23-24页 |
·增塑剂和链转移剂 | 第24页 |
·光敏引发剂和增感剂 | 第24页 |
·光聚合的空气阻聚作用与消减 | 第24-25页 |
·光敏引发体系简介 | 第25-32页 |
·染料光敏引发体系 | 第25-26页 |
·有机过氧化物光敏引发体系 | 第26-27页 |
·鎓盐光敏引发体系 | 第27-30页 |
·双咪唑光敏引发体系 | 第30-32页 |
·课题的目的意义、研究内容和创新点 | 第32-35页 |
·光敏聚合全息记录材料存在的问题 | 第32-33页 |
·课题的目的意义及创新点 | 第33页 |
·实验设计 | 第33-35页 |
第二章 含咔唑基的新型双咪唑光引发剂的合成 | 第35-43页 |
·主要试剂 | 第35-36页 |
·主要仪器 | 第36页 |
·实验操作 | 第36-43页 |
·原料的提纯 | 第36页 |
·粗咔唑提纯 | 第36页 |
·Z N,N-二甲基甲酰胺纯化 | 第36页 |
·三氯氧磷的纯化 | 第36页 |
·二甲基亚酚纯化 | 第36页 |
·N-烷基咔唑及N-苯基咔唑的合成 | 第36-38页 |
·N-甲基咔唑合成 | 第37页 |
·N-乙基咔唑合成 | 第37页 |
·N-丙基咔唑合成 | 第37页 |
·N-丁基咔唑合成 | 第37-38页 |
·S N-苄基咔唑合成 | 第38页 |
·N-苯基咔唑合成 | 第38页 |
·N-烷基咔唑及N-苯基咔唑的甲酰化 | 第38-40页 |
·9-甲基-3-甲酰基咔唑合成 | 第39页 |
·9-乙基-3-甲酰基咔唑合成 | 第39页 |
·9-丙基-3-甲酰基咔唑合成 | 第39-40页 |
·9-丁基-3-甲酰基咔唑合成 | 第40页 |
·9-节基-3-甲酰基咔唑合成 | 第40页 |
·9-苯基-3-甲酰基咔唑合成 | 第40页 |
·咪唑成环反应 | 第40-42页 |
·2-[3-(9-甲基-咔唑)]-4,5-二苯基-咪唑合成 | 第41页 |
·2-[3-(9-乙基-咔唑)]-4,5-二苯基-咪唑合成 | 第41页 |
·2-[3-(9[丙基[咔唑)][4,5[二苯基-咪唑合成 | 第41页 |
·2-[3-(9-丁基-咔唑)]-4,5-二苯基-咪唑合成 | 第41-42页 |
·2-[3-(9-苄基-咔唑)]-4,5-二苯基-咪唑合成 | 第42页 |
·咪唑二聚反应 | 第42-43页 |
第三章 结果与讨论 | 第43-60页 |
·反应原理 | 第43-46页 |
·N-烷基咔唑及N-苯基咔唑合成 | 第43页 |
·N-烷基咔唑及N-苯基咔唑甲酰化 | 第43-44页 |
·咪唑成环反应 | 第44-45页 |
·双咪唑合成 | 第45-46页 |
·结果与讨论 | 第46-58页 |
·N-烷基咔唑和N-苯基咔唑 | 第46-47页 |
·N-乙基咔唑工业法合成优化 | 第46-47页 |
·N-苯基咔唑合成优化 | 第47页 |
·N-烷基咔唑和N-苯基咔唑甲酰化 | 第47-50页 |
·N-烷基咔唑甲酰化反应优化 | 第47-49页 |
·N-苯基咔唑甲酰化反应 | 第49-50页 |
·咪唑成环反应 | 第50-57页 |
·反应物配比对咪唑成环的影响 | 第50页 |
·单咪唑化合物的紫外吸收光谱 | 第50-53页 |
·单咪唑化合物的荧光发射光谱 | 第53-55页 |
·单咪唑化合物光致变色行为研究 | 第55-57页 |
·咪唑二聚反应 | 第57-58页 |
·小结 | 第58-60页 |
参考文献 | 第60-65页 |
致谢 | 第65-66页 |
作者简介及硕士期间发表论文 | 第66-67页 |