PLZT铁电电光薄膜制备工艺研究
| 第一章 绪论 | 第1-15页 |
| ·研究背景及意义 | 第8-9页 |
| ·铁电电光材料的研究进展 | 第9-10页 |
| ·PLZT 铁电电光薄膜的制备方法 | 第10-13页 |
| ·透明电极(SNO_2)的制备方法 | 第13-14页 |
| ·本论文的主要研究内容 | 第14-15页 |
| 第二章 实验方案及测试原理 | 第15-29页 |
| ·实验方案 | 第15页 |
| ·新型电光器件的结构 | 第15-16页 |
| ·材料选择 | 第16-18页 |
| ·溅射靶材制备工艺 | 第18-23页 |
| ·基片清洗 | 第23页 |
| ·薄膜制备 | 第23-24页 |
| ·薄膜后处理 | 第24页 |
| ·薄膜结构和性能测试原理 | 第24-29页 |
| 第三章 旋转磁场平面靶磁控溅射设备研制 | 第29-37页 |
| ·射频磁控溅射原理 | 第29-31页 |
| ·现有的磁控溅射装置 | 第31-33页 |
| ·旋转磁场平面靶磁控溅射装置 | 第33-35页 |
| ·磁控溅射靶源的设计制作 | 第35页 |
| ·本装置的有益结果 | 第35-37页 |
| 第四章 溅射靶材研究 | 第37-54页 |
| ·前言 | 第37页 |
| ·靶材成分选择 | 第37页 |
| ·PLZT 陶瓷溅射靶材研究 | 第37-43页 |
| ·晶体结构研究结果 | 第43-45页 |
| ·预烧温度的影响 | 第45-47页 |
| ·烧结条件对 PLZT 陶瓷的影响 | 第47-49页 |
| ·SNO_2陶瓷溅射靶材研究 | 第49-52页 |
| ·本章小结 | 第52-54页 |
| 第五章 电光薄膜及透明电极制备工艺研究 | 第54-69页 |
| ·前言 | 第54页 |
| ·试验过程 | 第54-56页 |
| ·PLZT 薄膜制备工艺条件研究 | 第56-64页 |
| ·工艺条件对 SNO_2薄膜的影响 | 第64-67页 |
| ·本章小结 | 第67-69页 |
| 第六章 结论 | 第69-70页 |
| 致谢 | 第70-71页 |
| 参考文献 | 第71-75页 |
| 攻读硕士学位期间的研究成果 | 第75页 |
